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MATSUO松尾
OMRON欧姆龙
KEYENCE基恩士
传感器
探头
TORAY东丽 PSPI 可光刻型聚酰亚胺绝缘材料
产品型号: LT‑2200
产品简介:
日本 TORAY 东丽 光敏聚酰亚胺 PSPI(PHOTONEECE™) 一、产品定位 PSPI = Photo‑Sensitive Polyimide,光敏聚酰亚胺 是东丽专为半导体先进封装、晶圆级封装 WLP、Fan‑out、RDL 重布线、功率器件、MEMS开发的可光刻型聚酰亚胺绝缘材料,曝光显影直接形成线路 / 开孔,无需额外蚀刻,耐高温、高绝缘、高可靠性,是 2.5D/3D 封装、
详细介绍
二、东丽 PSPI 三大系列(完整型号 + 用途)
1. PW 系列|正性光敏 PI(*主流,**封装**)
特点:正胶、曝光区显影去除、高解析、低应力、高耐热、适合多层 RDL
PW‑1000
:标准通用型,膜厚 3–7μm,基础 IC 钝化、单层 RDL
PW‑1200
:平衡型,附着力好,多层布线、CSP、FC‑BGA
PW‑1500
:
**主力
,高分辨率、低吸水率,Fan‑out、2.5D/3D、HBM、微凸点
PW‑1700
:厚膜型,可做 10–20μm,功率半导体、堆叠封装
2. UR 系列|负性光敏 PI(厚膜、MEMS 腔体)
特点:负胶、曝光区保留、可做厚膜、高硬度、高粘接力
UR‑3100 / UR‑3300 / UR‑3500
用于 MEMS 腔体、大尺寸开孔、厚绝缘层、传感器封装
3. LT 系列|低温固化 PSPI(超薄晶圆、柔性芯片)
特点:固化温度≤200℃,保护超薄晶圆,不损伤器件
LT‑2000 / LT‑2200 / LT‑2500
超薄晶圆研磨、柔性电子、低温工艺、先进面板封装
4. GN 系列|超厚膜 PSPI(功率器件专用)
GN‑5000 / GN‑7000
可涂布 50–200μm 厚膜,IGBT、MOSFET、功率模块绝缘层
三、核心关键参数(通用)
固化温度:
230–350℃(PW 系列);LT 系列 180–200℃
解析度:线宽 / 线距
5μm 级别
,** PW‑1500 可达 3μm
介电常数 Dk:2.8–3.2,绝缘性能优异
热分解温度 Td:>500℃,耐高温回流焊
热膨胀系数 CTE:低应力,适配硅片、晶圆翘曲控制
吸水率极低,耐酸碱、耐化学药液
四、应用场景(半导体核心)
Fan‑out Panel Level / Wafer Level 封装
RDL 重布线层、钝化层、缓冲层
2.5D/3D IC、HBM、Chiplet
MEMS、传感器、光学器件
功率半导体、IGBT、MOSFET
超薄晶圆、柔性芯片
特性
GN系列
LT系列
PW系列
特长
可厚膜,高耐热
低温固化,高分辨率
高感度,高分辨率
曝光方式
负胶
正胶
正胶
显影液
碱性
碱性
碱性
固化温度(℃)
≧300
≧200
≧300
对应膜厚(μm)
8~20
1~11
1~11
分辨率(μm)
≧30
≧5
≧5
◆物理特性
GN系列
LT系列
PW系列
拉伸强度(MPa)
≧150
≧130
≧150
断裂伸长率(%)
≧40
≧50
≧50
杨氏模量(GPa)
≧3
≧2
≧3
热膨胀系数(ppm/℃)
≦50
≦50
≦40
玻璃化转变温度(℃)
≧300
≧270
≧300
5%重量減少温度(℃)
≧500
≧350
≧450
无氟材料
◆特性
GN-K系列
LT-K系列
PW-K系列
特長
低温固化,可厚膜
低温固化,高分辨率
高感度,高分辨率
无氟,无NMP
〇
〇
〇
曝光方式
负胶
正胶
正胶
显影液
碱性
碱性
碱性
固化温度(℃)
≧200
≧200
≧300