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TORAY东丽 PSPI 可光刻型聚酰亚胺绝缘材料
产品型号:UR‑3500
产品简介:

日本 TORAY 东丽 光敏聚酰亚胺 PSPI(PHOTONEECE™) 一、产品定位 PSPI = Photo‑Sensitive Polyimide,光敏聚酰亚胺 是东丽专为半导体先进封装、晶圆级封装 WLP、Fan‑out、RDL 重布线、功率器件、MEMS开发的可光刻型聚酰亚胺绝缘材料,曝光显影直接形成线路 / 开孔,无需额外蚀刻,耐高温、高绝缘、高可靠性,是 2.5D/3D 封装、

详细介绍

二、东丽 PSPI 三大系列(完整型号 + 用途)

1. PW 系列|正性光敏 PI(*主流,**封装**)

特点:正胶、曝光区显影去除、高解析、低应力、高耐热、适合多层 RDL
  • PW‑1000:标准通用型,膜厚 3–7μm,基础 IC 钝化、单层 RDL
  • PW‑1200:平衡型,附着力好,多层布线、CSP、FC‑BGA
  • PW‑1500:**主力,高分辨率、低吸水率,Fan‑out、2.5D/3D、HBM、微凸点
  • PW‑1700:厚膜型,可做 10–20μm,功率半导体、堆叠封装

2. UR 系列|负性光敏 PI(厚膜、MEMS 腔体)

特点:负胶、曝光区保留、可做厚膜、高硬度、高粘接力
  • UR‑3100 / UR‑3300 / UR‑3500
    用于 MEMS 腔体、大尺寸开孔、厚绝缘层、传感器封装

3. LT 系列|低温固化 PSPI(超薄晶圆、柔性芯片)

特点:固化温度≤200℃,保护超薄晶圆,不损伤器件
  • LT‑2000 / LT‑2200 / LT‑2500
    超薄晶圆研磨、柔性电子、低温工艺、先进面板封装

4. GN 系列|超厚膜 PSPI(功率器件专用)

  • GN‑5000 / GN‑7000
    可涂布 50–200μm 厚膜,IGBT、MOSFET、功率模块绝缘层

三、核心关键参数(通用)

  1. 固化温度:230–350℃(PW 系列);LT 系列 180–200℃
  2. 解析度:线宽 / 线距 5μm 级别,** PW‑1500 可达 3μm
  3. 介电常数 Dk:2.8–3.2,绝缘性能优异
  4. 热分解温度 Td:>500℃,耐高温回流焊
  5. 热膨胀系数 CTE:低应力,适配硅片、晶圆翘曲控制
  6. 吸水率极低,耐酸碱、耐化学药液

四、应用场景(半导体核心)

  • Fan‑out Panel Level / Wafer Level 封装
  • RDL 重布线层、钝化层、缓冲层
  • 2.5D/3D IC、HBM、Chiplet
  • MEMS、传感器、光学器件
  • 功率半导体、IGBT、MOSFET
  • 超薄晶圆、柔性芯片

特性

GN系列 LT系列 PW系列
特长 可厚膜,高耐热 低温固化,高分辨率 高感度,高分辨率
曝光方式 负胶 正胶 正胶
显影液 碱性 碱性 碱性
固化温度(℃) ≧300 ≧200 ≧300
对应膜厚(μm) 8~20 1~11 1~11
分辨率(μm) ≧30 ≧5 ≧5

◆物理特性

GN系列 LT系列 PW系列
拉伸强度(MPa) ≧150 ≧130 ≧150
断裂伸长率(%) ≧40 ≧50 ≧50
杨氏模量(GPa) ≧3 ≧2 ≧3
热膨胀系数(ppm/℃) ≦50 ≦50 ≦40
玻璃化转变温度(℃) ≧300 ≧270 ≧300
5%重量減少温度(℃) ≧500 ≧350 ≧450

无氟材料

◆特性

GN-K系列 LT-K系列 PW-K系列
特長 低温固化,可厚膜 低温固化,高分辨率 高感度,高分辨率
无氟,无NMP 〇 〇 〇
曝光方式 负胶 正胶 正胶
显影液 碱性 碱性 碱性
固化温度(℃) ≧200 ≧200 ≧300