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MIYUKI美幸辉BAR‑J25系列电动精密真空蝶阀
产品型号:BAR‑J25‑KF25
产品简介:

BAR‑J25 系列(MIYUKI 美幸辉) 定位:半导体 / 高真空设备用小口径、电动精密真空蝶阀(APC 阀),主打超紧凑、微开稳定、低颗粒、低成本,是 GAR‑J300 的小口径精简版,用于小腔室 / 管路的精密压力控制

详细介绍

一、型号与口径(命名规则)

型号构成

BAR‑J25 [类型]‑[口径]‑[法兰]‑[密封]
  • 类型:标准型(无后缀);B= 高流导;S= 超薄
  • 口径(DN):25A(KF25 标准)、KF40、CF35(小口径专属)
  • 法兰:KF(NW)/ CF / JIS
  • 密封:FKM(标准)/ Kalrez(耐化学)

核心型号

  • BAR‑J25‑KF25(*常用,25A 标准口径)
  • BAR‑J25B‑KF40(小口径高流导)
  • BAR‑J25‑CF35(高真空 UHV 适配)

二、核心参数(半导体小口径专用)

1)真空与泄漏

  • 压力范围:大气压(10⁵ Pa)~ 10⁻⁵ Pa(高真空)
  • 内漏率(阀座):≤1×10⁻⁹ Pa·m³/s(He 检漏)
  • 外漏率(轴封):≤1×10⁻¹⁰ Pa·m³/s(波纹管密封)

2)材质与表面

  • 阀体 / 蝶板:SUS304(标准)/ SUS316L(高纯)
  • 表面:电解抛光 EP Ra≤0.4μm(低放气、洁净)
  • 密封:FKM(‑20~120℃);可选 Kalrez(‑20~200℃,耐等离子体)
  • 轴封:金属波纹管(无摩擦、零颗粒)

3)驱动与控制(电动直驱)

  • 驱动:无背隙电机直驱(无齿轮),响应 ≤0.8s(比 GAR‑J300 更快)
  • 开度:0~90° 连续可调,分辨率 ≤0.1°
  • 控制信号:0–5V/0–10V/4–20mA;RS‑485(MG‑mini485 控制器)
  • 断电:保持开度(标准);可选断电全闭(**型)

4)温度与烘烤

  • 阀体:‑20℃~+150℃(FKM);≤180℃(Kalrez)
  • 电机:≤40℃(紧凑设计,散热优)

5)流导与尺寸(超紧凑)

  • KF25:流导 ≈40 L/s(N₂),面间 ≤35mm(超薄,比 GAR‑J300 短 20%)
  • KF40:流导 ≈90 L/s(N₂),面间 ≤40mm

三、结构特点(小口径核心优势)

  • ✅ 超紧凑体积:25A 口径仅手掌大小,适配微型腔室、分析设备、管路分支
  • ✅ 微开稳定性极强:1–5% 开度无抖动,压力波动 ≤±0.3%(优于 GAR‑J300)
  • ✅ 零颗粒设计:波纹管轴封 + 无滑动件,适配ALD、刻蚀副腔、微量气体控制
  • ✅ 低放气:EP 表面 + 高纯材质,适配UHV 预处理、薄膜沉积
  • ✅ 高性价比:价格约为 GAR‑J300 的 50%,小口径精密控制**

四、运用场景(半导体小口径专属)

1)ALD(原子层沉积)— 核心场景

  • 型号:BAR‑J25‑KF25‑Kalrez
  • 作用:前驱体管路 / 小反应腔压力控制(0.1–1 Pa),微开稳定、耐等离子体
  • 优势:体积小、响应快、低颗粒,适配 ALD 脉冲式工艺

2)刻蚀(RIE/ICP)— 副腔 / 气体管路

  • 型号:BAR‑J25‑KF25
  • 作用:工艺气体(Ar/O₂/CF₄)流量微调、副腔隔离
  • 优势:低成本、快响应、不占空间

3)PVD(溅射)— 小型靶材腔 / 预抽室

  • 型号:BAR‑J25‑CF35
  • 作用:预抽腔压力闭环(1–10 Pa),低放气、高真空隔离
  • 优势:超紧凑,适配多腔室堆叠设备

4)分析 / 检测设备(SEM/TEM/ 椭偏仪)

  • 型号:BAR‑J25‑KF25
  • 作用:电子枪 / 样品腔真空控制,高稳定、低振动
  • 优势:零颗粒、微开稳定,保护精密光学 / 电子部件

5)禁止场景

  • ❌ 大流量(>100 L/s)、主腔室(>50L)精密控制(选 GAR‑J300)
  • ❌ 强腐蚀气体(HF / 浓碱)
  • ❌ 超高真空(10⁻⁷ Pa 以下,选全金属密封版)

五、与 GAR‑J300/G‑J350 选型区别

对比项 BAR‑J25(小口径精密) GAR‑J300(通用精密) G‑J350(气动高导)
口径 25A(KF25)~KF40 KF40~CF100 KF50~CF100
驱动 电动直驱(超紧凑) 电动直驱(标准) 气动(大推力)
控制精度 ±0.3%(微开*优) ±0.5% ±5%(开关 / 粗调)
价格 低(基准 50%) 中(基准 100%) 低(基准 60%)
主场景 ALD、副腔、分析设备 刻蚀主腔、PVD、CVD PVD 泵组、CVD 前级

六、配套控制器

  • MG‑mini485(标配):小型 PID,0–10V/RS‑485,适配小口径闭环
  • MS‑VP(简易):开度控制,低成本开环调节