SANVAC E505 多元电子束蒸镀装置

产品特点

• 双电子枪同步蒸镀，可实现两种材料同时成膜，制备复合膜、多层膜，不用反复换源，提升研发效率。
• 晶振膜厚计闭环控制，自动控制成膜厚度，膜层均匀、一致性好，减少人工干预。
• 支持金属、氧化物等多种靶材，适配多种薄膜制备需求。
• 机型紧凑，属于实验室级设备，适合样品研发、小试样制备。
• 高真空腔体结构，膜层纯度高，减少杂质污染。

对比优势（对标同级别进口小型电子束蒸镀机）

• 双枪同时蒸镀为核心优势，同价位很多设备为单枪，无法同步共蒸，做合金、复合薄膜更方便。
• 膜厚自动闭环，实验重复性高，适合高校、科研单位做材料研究。
• 整机集成度高，操作流程简化，新手易上手。
• 日本原厂真空部件，腔体泄漏率低，真空稳定性好，减少维护频次。
• 设备体积适中，实验室台面可放置，无需大型厂房基建。

运用场景

• 高校 / 科研院所实验室：新材料研发、薄膜材料、金属 / 氧化物多层膜实验。
• 半导体研发试样：芯片试样、电极薄膜制备。
• 光学镀膜研发：光学试样膜层开发。
• 材料表面改性：金属、陶瓷基底表面蒸镀改性。
• 小批量试样生产，不适合大规模量产，主打研发打样。