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日本SANVAC RD‑1230 C820电阻加热真空蒸镀机
产品型号：
产品简介：

SANVAC 是一家知名的日本工业设备制造商，专注于高真空蒸镀机及真空装置的研发与生产。该品牌的产品在光学镀膜、半导体基板处理等精密制造领域具有较高知名度，支持根据客户的预算和具体规格进行高度定制化服务。
详细介绍

SANVAC RD‑1230 C820 电阻加热真空蒸镀机

项目 规格参数
型号 RD‑1230，编码 Code：C820
设备类型 电阻加热式真空蒸镀沉积设备
腔体规格 腔体内部约 Φ300mm，可适配多工件夹具
极限真空 5×10⁻⁶Pa（搭配分子泵机组）
蒸发源 电阻式蒸发源，支持金属、氧化物镀膜；可搭载 2‑4 个蒸发坩埚位
膜厚控制 标配晶振膜厚监测仪，实时膜厚监控与速率控制
基片台 可旋转基片座，支持工件均匀成膜，可加热基底
工作电源 AC220V/380V，50Hz
冷却方式 水冷（蒸发源、腔体法兰）
控制方式 PLC 面板控制，程序可编辑镀膜工艺流程


产品特点

  • 电阻蒸发成膜稳定：电阻加热蒸发，功率连续可调，可完成多层膜连续沉积，膜层均匀一致性好。
  • 集成晶振膜厚计：实时监控镀膜速率与膜层厚度，工艺可重复，适合研发与小批量试样生产。
  • 腔体布局紧凑：管路走线规整，炉门启闭顺畅，配件拆装便捷，检修维护简单。
  • 工艺适配广：兼容贵金属、金属薄膜、部分氧化物、有机薄膜试样制备，可切换不同坩埚实现多种材料蒸镀。
  • 操作友好：人机面板简易，工艺参数可保存调用，培训后即可上手，整机故障率低。


对比优势

  • 对比同级别国产蒸镀设备：整机真空密封性更优，膜厚控制精度高，工艺重复性强，适合对薄膜品质有较高要求的科研、小批量打样。
  • 对比**电子束蒸镀设备：采购成本更低，设备占地更小，运维简单，针对电阻可蒸发材料性价比突出。
  • RD‑1230 (C820) 腔体尺寸适中，兼顾样品数量与成膜均匀性，既适合实验室研发，也支持小批量试样加工。


运用场景

  • 高校、科研院所实验室：新材料研发、真空镀膜教学实验、钙钛矿电池电极制备、有机薄膜试样制备。
  • 光学试样开发：光学镜片小试样金属膜、反射膜、导电膜打样试制。
  • 精密电子元器件：小型电子器件电极层、导电薄膜小批量蒸镀。
  • 牙科、生物材料镀膜试样：医用基材表面薄膜沉积实验。
  • 贵金属薄膜、金属氧化物薄膜工艺开发与样品试制。