SANVAC ED‑1250R 高真空蒸发镀膜装置

产品特点

• 1. 双蒸发源集成：同时搭载电阻热蒸发 + 电子束蒸发，既可蒸镀低熔点金属，也可蒸镀钨、氧化铝等高熔点材料，一机兼容多种薄膜制备。
• 2. 玻璃可视钟罩腔体，镀膜过程可直接目视观察，方便实验调试与工艺摸索。
• 3. 基板旋转 + 高温加热一体化：基板旋转保证膜层均匀；*高 450℃基板加热，满足高温成膜工艺需求，适配半导体、光学试样。
• 4. 分子泵高真空机组，抽速快，10 分钟内可达到工艺真空，真空洁净度高，膜层杂质少。
• 5. 小型整机一体化，占地面积紧凑，适合实验室环境；预算友好型科研蒸镀设备。
• 6. PID 数字温控、晶闸管电源调节，蒸发电流、基板温度调节稳定，工艺可复现。

对比优势

• 同体积下配置更全：多数同价位小型蒸镀机只配电阻蒸发，ED‑1250R 直接集成电子枪 + 基板旋转 + 基板加热，不用额外选配，降低后期改造成本。
• 真空指标**，极限真空 2E‑4Pa，漏率低，薄膜纯度高，适合对膜层质量要求高的新材料研发。
• 兼容 2 英寸晶圆与小试样，既可做小样品实验，也可做小尺寸晶圆试样镀膜，科研通用性强。
• 日本原厂整机，真空系统成套匹配，分子泵‑前级泵组合优化，故障率低，工艺稳定性优于组装改装设备。
• 玻璃钟罩维护拆装简单，腔体清洁、换源操作便捷。

运用场景