SANVAC RD‑1300R 6495 高真空电阻加热蒸镀装置

产品特点

• 双蒸发源可切换：搭载两组电阻加热机构，真空腔内直接切换源，无需破真空，可连续制备多层薄膜，实验效率高。
• 标配晶振膜厚仪：实时监控蒸发速率与薄膜厚度，成膜精度高，适合科研实验对膜层精度要求。
• 内置水冷循环单元：自带冷却水循环，现场不用外接水冷设施，实验室部署简单，适配多种场地条件。
• 基板高温加热：基板*高可达 650℃，适配需要高温基底工艺的镀膜实验。
• 油扩散泵排气系统：短时间即可达到高真空，腔体洁净，减少膜层氧化杂质。
• 双模式操作：支持手动旋钮操作，也可程序控制器自动运行，新手与**研发均可使用。

对比优势

• 对比国产同类型小型蒸镀机：整机稳定性、膜厚重复精度更高；整机体积小巧，专为实验室桌面级研发，故障率低，日本原厂整机。
• 对比同品牌 RD‑1300（code8659/9425）：RD‑1300R (code6495) 主打牙科科研、贵金属 Au 薄膜制备，基板加热能力更强，更适合高温基底试样；RD‑1300 分子泵版本侧重洁净无油场景。
• 对比电子束蒸镀设备：设备购置、运维成本更低，对金、银等低‑中熔点金属、合金蒸镀性价比极高；操作门槛低，教学实验友好。
• 多层膜实验优势：双源腔内切换，不用破真空，多层膜实验不用反复抽真空，节省大量实验时间。

运用场景