SANVAC RD‑1300 高真空电阻加热蒸镀装置

产品特点

• 双蒸发源可切换，2 对电阻加热蒸发源，真空腔不破坏真空即可完成多层薄膜连续蒸镀实验，无需破真空换源。
• 全自动真空流程：抽真空、泄压自动完成，降低人为误操作，上手门槛低，适合教学科研使用。
• 标配晶振膜厚计，可实时监控、控制薄膜厚度，保证成膜精度与实验可重复性。
• 涡轮分子泵机组，抽气速度快，获得洁净无油高真空环境，减少镀膜杂质污染，薄膜纯度高。
• 整机小型一体化柜体，占地面积小，实验室摆放友好；支持多种选配模块，可拓展气体通入等工艺需求。

对比优势

• 相比国产同类型小型热蒸发设备：整机真空漏率控制优异，极限真空更高，成膜洁净度好；原厂集成晶振膜厚仪，无需额外外购加装，整机匹配度高，实验重复性更好。
• 对比同价位进口机型：机身紧凑体积更小，对实验室水电条件要求低（AC100V 供电）；全自动真空操作，降低科研人员操作负担，兼顾教学演示与新材料研发。
• 对比电子束蒸镀设备：采购成本更低，维护简单；针对金属、有机材料、贵金属薄膜实验性价比更高，适合不需要蒸镀超高熔点介质材料的科研场景。

运用场景

• 高校、科研院所真空技术教学实验；
• 有机薄膜、贵金属薄膜、金属电极薄膜制备；
• 钙钛矿电池、光电器件实验室研发，OLED、OPV 材料前期试样；
• 新材料实验室小批量试样镀膜，基础薄膜工艺开发验证。