SANVAC RD‑1300 9425 高真空电阻加热蒸镀装置

产品特点

• 小型科研专用机型，整机占地面积小，适配实验室有限空间，操作门槛低，新手简单培训即可上手。
• 双组可切换电阻蒸发源，不破坏真空腔体即可完成多层膜蒸镀，减少破真空带来的工艺污染。
• 标配晶振膜厚仪，可实时监控镀膜速率与薄膜厚度，保证成膜精度。
• 涡轮分子泵排气系统，无油污染，获得洁净真空环境，保障薄膜纯度。
• 全自动排气 / 破真空流程，减少人为误操作，具备**互锁保护。
• 拓展性强，可加装 MFC 气体导入、基板加热等配件，适配多种材料实验。

对比优势

• 抽气效率**：10 分钟内即可到达实验工作真空，缩短等待时间，提升实验频次。
• 多层膜无需破腔：双蒸发源切换，真空内直接换源镀膜，避免腔体进气引入杂质，薄膜一致性更好。
• 整机体积紧凑，相较同规格设备占地更小，对实验室场地要求低。
• 全自动流程降低操作风险，对科研人员友好，减少操作失误导致实验报废。
• 原厂配件拓展灵活，不用整机改造即可增加气体通入、基板加热等功能，适配新材料研发迭代。

运用场景

• 高校、科研院所实验室：新材料科研实验、教学实验、薄膜机理研究。
• 金属薄膜制备：金、银、铝、铬等金属薄膜蒸镀。
• 光学、光电试样制备：光学试样、传感器电极薄膜、钙钛矿相关电极薄膜制备。
• MEMS、微电子试样研发，小批量试样件的电阻蒸发镀膜。
• 有机薄膜、部分氧化物薄膜的实验室蒸镀试制。