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日本SANVAC RD‑1350 高真空电阻加热蒸镀装置
产品型号:
产品简介:

设备定位:日本 SANVAC 洁净室型**电阻加热真空蒸发镀膜机**,干泵 + 分子泵无油排气系统,面向科研、小批量精密金属薄膜制备,支持洁净室安装使用。

详细介绍

SANVAC RD‑1350 高真空电阻加热蒸镀装置

项目 参数
设备类型 电阻加热式高真空蒸镀机(洁净室机型)
极限真空 ≤1.0×10⁻⁴Pa(空炉常温)
抽气时间 ≤10min 抽到 10⁻³Pa 量级
排气系统 无油干泵 + 涡轮分子泵(无油洁净排气)
蒸发源 多组可切换电阻加热蒸发源,可真空下制备多层膜
膜厚控制 标配晶体振荡膜厚计,自动膜厚监控
基板功能 基板旋转、基板加热,提升膜层均匀性
**监控 水压、气压、漏水、窒息防护联锁报警
控制模式 全自动:抽真空‑蒸镀‑破真空一键自动流程;支持手动操作
适用材料 金属、部分合金蒸镀;适配电极薄膜、金属膜层制备
使用环境 支持洁净室安装


产品特点

  • 无油洁净排气:干泵 + 分子泵组合,无油扩散泵,避免油蒸汽污染腔体,满足洁净室工艺环境。
  • 全自动工艺流程:抽气、镀膜、泄压破真空全流程自动运行,新手简单培训即可操作,减少人为操作误差。
  • 原位多层膜制备:多组可切换电阻蒸发源,不破坏真空环境下实现多层薄膜连续蒸镀,不用反复开腔。
  • 高精度膜厚管控:晶体振荡膜厚计实时监测沉积速率与膜层厚度,膜厚重复性好。
  • 完整**联锁保护:漏水、水压、气压异常监控,窒息防护,故障报警停机,设备运行**性高。
  • 基板优化设计:基板旋转 + 基板加热,提升大面积样品膜层均匀性。



对比优势

  • 洁净室原生设计:整机专为洁净室环境开发,无油排气,比传统扩散泵机型污染风险更低,适配半导体、材料研发洁净工艺。
  • 操作门槛低:全自动逻辑,兼顾自动 / 手动双模式,科研人员、实验员上手快,减少工艺失误。
  • 多层膜效率更高:真空内切换蒸发源,不用破真空换源,节省反复抽真空时间,提升实验与小批量打样效率。
  • **防护完善:水、气、压力全套监测联锁,相比部分简化版进口设备,降低误操作损坏设备、样品的风险。
  • 体积紧凑,占用实验室面积小,兼顾高校科研、企业研发打样,不适合大规模量产。


运用场景

  • 高校科研院所:新材料研发、真空镀膜教学实验、金属薄膜样品制备。
  • 光电与传感器研发:钙钛矿电池电极蒸镀、各类金属电极薄膜制备。
  • 牙科、装饰薄膜小试样打样:牙科部件镀膜、贵金属薄膜试制。
  • 半导体实验室研发:小尺寸样品金属化镀膜,洁净室研发实验。
  • 有机‑金属复合薄膜研发:兼容部分有机材料热蒸镀实验。