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日本SANVAC RD‑1350 高真空电阻加热蒸镀装置
产品型号:
产品简介:
设备定位:日本 SANVAC 洁净室型**电阻加热真空蒸发镀膜机**,干泵 + 分子泵无油排气系统,面向科研、小批量精密金属薄膜制备,支持洁净室安装使用。
详细介绍
SANVAC RD‑1350 高真空电阻加热蒸镀装置
项目
参数
设备类型
电阻加热式高真空蒸镀机(洁净室机型)
极限真空
≤1.0×10⁻⁴Pa(空炉常温)
抽气时间
≤10min 抽到 10⁻³Pa 量级
排气系统
无油干泵 + 涡轮分子泵(无油洁净排气)
蒸发源
多组可切换电阻加热蒸发源,可真空下制备多层膜
膜厚控制
标配晶体振荡膜厚计,自动膜厚监控
基板功能
基板旋转、基板加热,提升膜层均匀性
**监控
水压、气压、漏水、窒息防护联锁报警
控制模式
全自动:抽真空‑蒸镀‑破真空一键自动流程;支持手动操作
适用材料
金属、部分合金蒸镀;适配电极薄膜、金属膜层制备
使用环境
支持洁净室安装
产品特点
无油洁净排气
:干泵 + 分子泵组合,无油扩散泵,避免油蒸汽污染腔体,满足洁净室工艺环境。
全自动工艺流程
:抽气、镀膜、泄压破真空全流程自动运行,新手简单培训即可操作,减少人为操作误差。
原位多层膜制备
:多组可切换电阻蒸发源,
不破坏真空环境下实现多层薄膜连续蒸镀
,不用反复开腔。
高精度膜厚管控
:晶体振荡膜厚计实时监测沉积速率与膜层厚度,膜厚重复性好。
完整**联锁保护
:漏水、水压、气压异常监控,窒息防护,故障报警停机,设备运行**性高。
基板优化设计
:基板旋转 + 基板加热,提升大面积样品膜层均匀性。
对比优势
洁净室原生设计
:整机专为洁净室环境开发,无油排气,比传统扩散泵机型污染风险更低,适配半导体、材料研发洁净工艺。
操作门槛低
:全自动逻辑,兼顾自动 / 手动双模式,科研人员、实验员上手快,减少工艺失误。
多层膜效率更高
:真空内切换蒸发源,不用破真空换源,节省反复抽真空时间,提升实验与小批量打样效率。
**防护完善
:水、气、压力全套监测联锁,相比部分简化版进口设备,降低误操作损坏设备、样品的风险。
体积紧凑
,占用实验室面积小,兼顾高校科研、企业研发打样,不适合大规模量产。
运用场景
高校科研院所
:新材料研发、真空镀膜教学实验、金属薄膜样品制备。
光电与传感器研发
:钙钛矿电池电极蒸镀、各类金属电极薄膜制备。
牙科、装饰薄膜小试样打样
:牙科部件镀膜、贵金属薄膜试制。
半导体实验室研发
:小尺寸样品金属化镀膜,洁净室研发实验。
有机‑金属复合薄膜研发
:兼容部分有机材料热蒸镀实验。