SANVAC RD‑1400R 高真空电阻加热蒸镀机

产品特点

• 多蒸发源可切换，内置 3 对电阻蒸发源，不破坏腔体真空即可切换蒸发材料，支持多层薄膜连续制备，提升实验效率。
• 基板旋转 + 卤素灯加热，*高 350℃，改善膜层附着力与均匀性，膜厚均匀性控制在 ±10% 内。
• 分子泵洁净排气方案，规避油扩散泵返油污染，适合对薄膜纯度有要求的样品制备。
• 自动 / 手动双操作模式，全自动抽真空、泄压流程，既适合教学演示，也适合研发人员工艺调试。
• 支持晶振膜厚监控选配，可精准控制镀膜厚度与速率，实验可重复性高。
• 整机结构紧凑，占地面积小，适配实验室有限空间；核心部件日本原厂，故障率低，维护简单。

对比优势

1. 对比同级别 RD‑1250R：RD‑1250R 主打教学演示，RD‑1400R 升级为 3 对蒸发源、基板加热 + 旋转，更偏向实际材料研发，多层膜实验能力更强，不只是教学演示。
2. 对比国产同价位电阻蒸镀机：真空稳定性好，膜层均匀可控；蒸发源切换、基板温控旋转为标准配置，减少额外选配成本，工艺复现性**。
3. 对比电子束蒸镀设备：设备采购与运维成本更低，操作门槛低，适合金属、部分易蒸发介质材料，适合预实验、新材料探索。
4. 抽气流程自动化，降低人为误操作风险，适合学生、科研人员轮换使用。

运用场景

1. 高校 / 科研院所实验室：真空镀膜教学实验、新材料薄膜研发、贵金属薄膜、有机薄膜制备。
2. 钙钛矿电池电极薄膜、光电功能薄膜试样制备。
3. 牙科材料、MEMS 样品、光学试样小试样蒸镀。
4. 多层金属膜、复合薄膜工艺开发、小批量试样打样。