SANVAC ED‑1500R 高真空电子束电阻复合蒸镀装置

产品特点

1. 双蒸发源复合架构：电阻加热与电子束蒸发集成一体，可真空内部切换蒸发源，无需破真空实现多层薄膜连续制备，兼顾常规金属与高熔点介质材料蒸镀。
2. 高精度成膜控制：标配晶振膜厚监测，搭配基板旋转 + 基板加热，薄膜厚度均匀性好，膜层纯度高、附着力优异。
3. 强工艺拓展能力：支持选配离子源、不同规格电子枪、样品台升级，可匹配新材料研发、试样打样、小批量中试。
4. 稳定高真空系统：涡轮分子泵真空机组，真空测量配置齐全，腔体密封可靠，抑制氧化污染，保障镀膜品质。
5. 日系整机可靠性：面向高校、科研机构、企业研发部门设计，工艺重复性好，操作维护便捷。

对比优势

1. 一机双源，性价比突出：同价位很多设备只能单电阻蒸发或单电子束；ED‑1500R 同时具备电阻 + EB 电子束，一套设备覆盖更多工艺，降低设备投入成本。
2. 真空内换源，效率更高：3 组电阻源 + 3 组电子枪，真空状态切换蒸发源，做多层膜不用破真空，减少抽真空等待时间，样品污染风险更低。
3. 科研场景适配度高：腔体尺寸、基板承载、真空指标针对实验室 / 研发中试优化，既可以小样品打样，也支持中小基板批量试样。
4. 后期升级灵活：电子枪、膜厚系统、基板机构均可原厂选配升级，设备生命周期长，跟随研发项目迭代。
5. 工艺重现性好：日系真空控制逻辑，整套真空与蒸发系统匹配度高，批次之间镀膜结果一致性强。

运用场景

1. 高校科研院所：新材料、半导体材料、光学薄膜实验，多层膜试样制备；
2. 半导体研发：晶圆试样金属化、电极薄膜、介质薄膜蒸镀；
3. 光电行业：光学元器件、光电器件、传感器薄膜制备；
4. 精密电子：MEMS 器件、微型元器件金属薄膜沉积；
5. 企业研发中试：贵金属、氧化物、高熔点材料蒸镀打样，小批量工艺验证。