SANVAC ED‑1500 9464 日本真空蒸镀机

产品特点

1. 双蒸发复合架构：电子束蒸发 + 电阻蒸发二合一，既可蒸镀普通金属，也可加工钨、氧化硅等高熔点材质，一机实现多种薄膜制备。
2. 膜层质量稳定：搭载基板旋转 + 基板加热机构，薄膜厚度均匀，成膜纯净，镀层一致性好。
3. 自动化程度高：整套镀膜流程可编程自动运行，工艺参数可保存复现，降低人为操作误差。
4. 工艺兼容性强：既可做科研小样试制，也支持小批量连续中试生产，不用更换设备切换研发‑小量产。
5. 原厂核心组件：日本整机设计，腔体、蒸发源核心部件原厂配套，故障率低，维护便捷，综合运维成本低。

对比优势

1. 对比单电阻蒸发机型：可处理高熔点氧化物、难熔金属，拓展镀膜材料范围，不局限低熔点贵金属。
2. 对比大型量产镀膜机：设备体积更紧凑，采购成本更低，兼顾研发与中试，适合高校、研究所、企业研发部门，不用投入大额量产设备。
3. 对比国产同类型蒸镀设备：真空稳定性、电子束控制精度、膜层均匀复现性更优，适合对薄膜品质要求严苛的光学、半导体试样。
4. 整套集成度高：真空系统、蒸发源、基板工位集成一体，安装调试简单，到货后快速投产。

运用场景

1. 科研高校院所：新材料研发、薄膜材料实验、教学实验；钙钛矿、光电材料、氧化物薄膜试样制备。
2. 光学行业：光学镜片、光学元器件蒸镀，增透膜、金属反射膜试制。
3. 半导体 & 精密电子：半导体零部件、微型器件电极薄膜制备。
4. 新材料企业中试：金属膜、复合氧化膜打样、中小批量试制；功能薄膜工艺开发验证。