SANVAC ED‑1500 A474 日本真空蒸镀机

产品特点

1. 双蒸发复合系统：同时具备电阻蒸发与电子束蒸发，既可以蒸镀普通金属，也可以加工钨、氧化硅等高熔点材料，一机兼容多种镀膜工艺。
2. 基板加热 + 旋转机构：基板旋转保障膜层厚度均匀；基板加热功能改善薄膜附着力，降低薄膜应力，成膜品质高。
3. 全自动程序控制：整套镀膜流程可编程存储，自动完成抽真空、蒸发、冷却，降低人为操作误差，新手简单培训即可上手操作。
4. 腔体密封可靠，真空环境纯净，减少杂质混入，薄膜纯度高，膜层光洁度好。
5. 兼顾研发小试 + 中小批量，既适合实验室样品开发，也可做小批量零部件镀膜生产，工艺拓展性强。
6. 原厂元器件，故障率低，维护流程简单，综合运维成本可控。

对比优势

1. 对比单一电阻蒸镀设备：增加电子束蒸发单元，支持高熔点材料镀膜，工艺覆盖更广，不用采购两台设备，节省采购成本。
2. 对比大型量产蒸镀机：整机体积紧凑，投入成本更低，兼顾科研试制与小批量加工，灵活性更强。
3. 对比同级别进口机型：基板旋转 + 加热为标准配置，膜层均匀性、附着力表现稳定；自动化程度高，可保存多套工艺配方，方便快速切换实验。
4. 真空腔体密封工艺成熟，抽气稳定，长期连续运行性能可靠。

运用场景

1. 科研院校实验室：新材料薄膜研发、多层膜实验、光学膜层试样制备。
2. 光电行业：光学镜片、光电器件、滤光片蒸镀。
3. 半导体零部件：半导体元器件、传感器基底镀膜。
4. 精密电子：金属膜、氧化膜、复合膜的试样试制、中小批量镀膜加工。
5. 材料研究所：钙钛矿、贵金属、氧化物薄膜开发。