SANVAC ED‑1500 B175 高真空蒸镀机

产品特点

1. 大腔体容量，φ500 大腔体，基板支持 φ210mm，可同时处理多片工件，兼顾试样研发与中小批量生产。
2. 3 组可切换电阻蒸发坩埚，可快速切换蒸镀材料，无需破真空更换坩埚，提升作业效率。
3. 基板可旋转 + 加热，保证膜层厚度均匀性，可做多层复合薄膜制备。
4. 超高真空等级，腔体 SUS304 不锈钢，极低漏率，减少杂质混入，薄膜纯度高、附着力强。
5. 可控硅电流精准控制蒸发功率，蒸发速率稳定，工艺重复性好。
6. 整机一体化柜体设计，真空系统成套集成，自带完整真空控制逻辑，操作便捷。

对比优势

1. 对比小型蒸镀机：腔体更大，基板尺寸更大，可承接中小批量加工，不只局限实验室小样；基板加热旋转配置齐全，工艺拓展性更强。
2. 对比同级别竞品：氦检漏标准高，漏率优异，长期运行真空稳定性好，膜层一致性高。
3. 三坩埚切换设计，多材料连续蒸镀，减少破真空频次，节约抽真空等待时间。
4. 日本原厂整机，元器件可靠性高，故障率低，适合连续长时间生产作业。
5. 工艺参数可控性强，可复现成熟镀膜工艺，便于标准化生产。

运用场景

1. 光学行业：光学镜片、滤光片、光学元器件金属 / 氧化物膜层蒸镀。
2. 光电元器件：光电器件电极膜、导电薄膜制备。
3. 半导体零部件：半导体配件金属薄膜、保护层蒸镀。
4. 新材料研发：科研院所、企业研发实验室，金属膜、多层复合薄膜实验。
5. 精密电子器件、传感器件薄膜制备，小批量镀膜代工生产。