SANVAC RD‑1600 电阻加热真空蒸镀设备

产品特点

1. 电阻蒸发稳定输出，多蒸发源布局，支持金属、部分有机材料多层共蒸，功率调节精度高，膜层均匀性好。
2. 全自动流程控制，镀膜、抽真空、泄压全流程预设执行，减少人为操作误差，工艺可保存复现，实验重复性高。
3. 腔体密封可靠，真空机组匹配优化，抽速快、真空稳定性强，降低杂质混入，薄膜纯度、附着力优异。
4. 集成基板旋转 + 基板加热，适配不同基底材料，减少膜层应力，提升成膜品质。
5. 人机交互简单，培训门槛低；核心元器件原厂配套，故障率低，日常维护简易，综合运维成本低。
6. 可拓展性强，支持选配离子清洗、预腔换样等模块，满足研发迭代需求。

对比优势

1. 定位偏向研发‑小批量中试，相比大产能工业机型，整机占地更小、能耗更低，设备投入成本更友好，适合院校、新材料企业样品试制，不盲目追求超大产能。
2. RD 系列主打电阻蒸发，针对低‑中熔点金属、有机膜工艺做优化，相比电子束机型，设备结构简单、维护难度、备件成本更低。
3. 工艺复现能力强，整套参数可存储调用，对科研实验、新材料打样非常友好，减少调试时间。
4. 整机一体化集成，不需要复杂现场管路改造，就位后调试周期短，快速投产使用。
5. 对比国产同规格设备：真空系统稳定性、膜厚控制一致性更好；对比欧美进口机型，价格与维保交期更有优势。

运用场景

1. 科研院校研发：新材料实验、真空技术教学；钙钛矿电池电极、有机薄膜、贵金属薄膜样品制备。
2. 光电行业：光学元件金属膜、传感器电极膜、光电器件试样开发。
3. 牙科、医疗器械：牙科配件镀膜、小型医疗零部件功能性薄膜试制。
4. 材料实验室：金属、合金、部分有机材料单层 / 多层薄膜的 PVD 蒸镀打样与小批量试生产。