SANVAC ED‑1600 高真空蒸镀装置

产品特点

1. 双蒸发源一体化：电阻加热 + 电子枪双模式，普通金属用电阻蒸发，高熔点材质使用电子束蒸发，一机兼容多种镀膜工艺。
2. 全流程自动化：抽真空、蒸镀准备、破真空放气、膜厚闭环控制全部自动执行，减少人为操作误差。
3. 基板快速升温系统：双卤素灯基板加热，短时间升到 300℃，满足对基底温度有要求的薄膜制备。
4. 兼顾研发与中试量产：原生面向科研开发，同时硬件规格满足中小批量生产，不用区分实验机 / 生产机两套设备。
5. 高度可定制：真空机组（干泵 / 油旋片泵）、腔体、蒸发源工位、基板台均可按客户工艺定制改配。
6. 成膜质量稳定：高真空腔体环境，薄膜纯度高、附着力好，适合光学、半导体精密薄膜。

对比优势

1. 复合蒸发性价比高：同价位很多设备只能单选电阻或电子束，ED‑1600 出厂标配两套蒸发源，工艺覆盖更广，减少设备采购投入。
2. 自动化程度高，上手门槛低：整套真空时序全自动，新手简单培训即可操作，降低人员技术依赖。
3. 灵活的泵组选配：可切换无油干泵系统 / 传统油旋片泵，满足洁净工艺、常规工艺不同场景。
4. 科研‑中试无缝过渡：实验室工艺参数可直接迁移到小批量试产，不用重新调试设备。
5. 原厂可深度定制：基板尺寸、蒸发源工位、控制逻辑均可定制，适配国内客户非标工艺需求。

运用场景

1. 光学行业：光学镜片、滤光片、光学元器件金属 / 氧化物薄膜制备。
2. 半导体 & 微电子：半导体零部件、晶圆试样、MEMS 器件薄膜试制。
3. 新材料研发：高校、科研院所金属膜、贵金属膜、氧化物薄膜实验开发。
4. 精密电子元器件：传感器、光电元件电极薄膜沉积。
5. 中小批量中试生产：光电元器件小批量镀膜加工打样生产。