SANVAC ED‑1700R 真空蒸镀机

产品特点

1. 双蒸发源复合架构：电阻加热与电子束蒸发一体化，一套设备兼顾普通金属与高熔点介质材料镀膜，模式快速切换。
2. 基板工艺拓展齐全：标配基板加热、基板旋转机构，薄膜厚度均匀性好，成膜光洁度高。
3. 全自动真空流程：从抽真空、蒸镀工艺到破真空整机自动运行，触控操作，新手培训后即可上手，降低人为操作失误。
4. 真空性能优异：短时间可达高真空环境，腔体洁净，适合光学、半导体器件的精密成膜。
5. 原厂核心部件：泵组、真空计、蒸发电源均 SANVAC 原厂配套，故障率低，维护简单，适合长期连续小批量作业。
6. 玻璃可视腔体：镀膜过程可视化，方便观察蒸镀状态，试样调试直观。

对比优势

1. 一机多用：RD 系列只有电阻蒸发，ED‑1700R 同时具备电子束，可做高熔点氧化物、陶瓷材料，不用采购两台设备，综合下来采购成本更低。
2. 成膜品质稳定：日本 SANVAC 真空腔体、分子泵匹配调试成熟，薄膜厚度均匀，重复性好，对研发打样、中试良率友好。
3. 自动化程度更高：完整工艺时序控制，可保存多套镀膜配方，可重复调用工艺参数，适合多批次试样。
4. 维护成本低：整机结构成熟，配件供应链完善，日常保养简单，停机时间少。
5. 兼顾研发 + 小量产：既可以实验室打样研发，也可以承接中小批量试样，适配产学研及中小型企业中试线，不只是纯实验室设备。

运用场景

1. 光学行业：光学镜片增透膜、反射膜、金属分光膜试样开发
2. 半导体及精密电子：半导体零部件、MEMS 器件电极薄膜制备
3. 新材料研发：院校科研院所新材料薄膜实验、贵金属、氧化物薄膜试制
4. 光电元器件：光电器件电极、介质膜、钙钛矿相关薄膜试样
5. 中小工厂中试打样：新产品镀膜工艺开发、小批量样品加工