SANVAC ED‑1700 7127电子束电阻加热复合真空蒸镀机

产品特点

1. 双蒸发源复合设计：同时具备电子束蒸发、电阻加热蒸发两套系统，高熔点材料、常规金属材料均可蒸镀，一机兼容多种镀膜工艺，减少设备投入成本。
2. 大腔体产能：Φ1700 大腔体，可放置多片基板，兼顾研发打样与小批量中试生产。
3. 真空环境纯净稳定，成膜均匀度高，膜层光洁致密，膜厚重复性好，满足光电、半导体零部件镀膜品质要求。
4. 基板温控 + 旋转机构：基板旋转保证膜层均匀，基板加热功能适配不同基底工艺需求。
5. 工艺可编程自动化，工艺配方可保存，操作门槛低，简单培训即可上手，维护流程简易。
6. 原厂核心元器件，故障率低，整机使用寿命长，适合长期连续作业。

对比优势

1. 一机双蒸发源：同类设备大多单电子束或单电阻源，ED‑1700 两套蒸发源集成，工艺覆盖更广，不用采购两台设备，综合后采购成本更低。
2. 大腔体尺寸：1700mm 腔体，比同价位机型装载量更大，中试小批量生产效率更高。
3. 兼顾研发 + 小量产：既可以实验室做新材料研发试样，也支持小批量零部件镀膜，设备利用率高。
4. 日本 SANVAC 原厂工艺配套成熟，针对光学、半导体零部件镀膜做过工艺优化，膜层结合力、均匀性表现稳定。
5. 自动化程度适中，没有多余复杂模块，后期维保、配件更换成本优于**欧美同类机型。

运用场景

1. 光电行业：光学镜片、滤光片、光电器件光学薄膜制备。
2. 半导体及精密电子：半导体零部件、MEMS 器件、微电子器件金属化镀膜，贵金属电极膜层制备。
3. 新材料科研院所：高校、科研实验室新材料薄膜实验、试样开发，金属 / 氧化物复合薄膜试制。
4. 精密器件加工：传感器元件、微波器件、毫米波器件的真空蒸镀成膜加工。