SANVAC ED‑1700 8495真空电子束蒸镀机

产品特点

1. 双蒸发复合架构：电子束蒸发处理高熔点材料，电阻蒸发适配常规金属，一台设备兼容多种镀膜工艺，一机多用。
2. 基板加热 + 旋转机构：成膜厚度均匀性好，薄膜附着力高，膜层光洁度高，成品良率高。
3. 高真空腔体密封性能优异，镀膜环境洁净，减少杂质混入，保障薄膜纯度。
4. 自动化程度高，工艺参数可存储调用，完整镀膜流程自动运行，降低人为操作误差，支持连续作业。
5. 原厂核心元器件配套，故障率低，保养维护流程简单，综合运维成本低。
6. 工艺拓展性强，可按需选配前置锁腔、离子清洗、膜厚监测等选配模块。

对比优势

1. 对比单一电阻蒸发机型：可蒸镀钨、钼等高熔点难熔材料，材料覆盖范围大幅拓宽，不局限贵金属与低熔点材料。
2. 对比大型量产镀膜设备：设备投入成本更低，兼顾研发打样 + 中小批量中试，适合企业工艺开发、高校科研，不用单独采购两台设备。
3. 日系整机工艺稳定性好，真空系统稳定性强，膜层一致性好，重复工艺可复现。
4. 相比同类进口设备，体积布局合理，适配实验室、中试车间现场安装。

运用场景

1. 光电行业：光学镜片、光电器件介质膜、金属膜层制备。
2. 半导体零部件：半导体器件零部件镀膜、电极薄膜制备。
3. 新材料研发：院校、科研院所新材料薄膜实验、多层膜工艺开发。
4. 精密电子元器件：精密元器件金属化镀膜。
5. 中小批量中试生产：金属薄膜、氧化物复合膜试样及小批量加工生产。