SANVAC ED‑3100 大型真空蒸着装置镀膜机

产品特点

1. 双蒸发复合架构：同时具备电子束蒸发 + 电阻热蒸发，既可蒸镀高熔点硬质材料，也可做常规金属、介质膜，一机兼容多种工艺。
2. 大型腔体高产能：ED‑3100 为 ED 系列大机型，基板装载容量大，兼顾试样研发和中小批量工业化生产，不是小型实验室机型。
3. 膜层品质稳定：基板旋转 + 基板加热，膜层均匀性好、附着力强、薄膜纯度高，减少杂质污染。
4. 全自动工艺运行：整套镀膜流程自动执行，工艺配方可保存调用，降低人为操作误差。
5. 原厂核心部件：真空机组、电子枪、膜厚计均为 SANVAC 原厂配套，设备故障率低，维护简单。
6. **互锁保护：真空、水冷、过载多重联锁保护，工业环境连续作业可靠性高。

对比优势

1. 对比 SANVAC RD 系列：RD 主打实验室小型电阻蒸发；ED‑3100 带电子束，腔体更大，支持高熔点材料，面向中试 / 小量产，产能更高，工艺拓展更强。
2. 对比国产普通蒸发机：日本原厂整机，真空密封、电子枪稳定性、膜厚控制精度更好；适合对薄膜一致性、良率要求高的精密器件。
3. 一机多用：电阻蒸发、电子束蒸发可独立或协同工作，支持共蒸镀膜，不用多台设备，降低采购成本。
4. 大基板兼容：可以处理大尺寸工件，解决小型蒸镀机无法加工大件样品的痛点。

运用场景

1. 光电行业：光学镜片、滤光片、光电器件金属 / 介质薄膜制备。
2. 半导体 & 微电子：半导体零部件、芯片电极、MEMS 器件蒸镀。
3. 新材料研发：金属薄膜、氧化物薄膜、多层复合膜的试制与小批量加工。
4. 精密电子元器件：传感器、连接器、精密器件表面镀膜。
5. 科研院所、企业中试产线：新材料开发、工艺验证、中小批量生产。