SANVAC SP‑1500R RF 磁控溅射镀膜机

产品特点

1. 小型腔体支持高温基板加热，基板*高可加热 500℃，满足高温条件下射频溅射成膜实验。
2. RF 射频电源 13.56MHz/500W，金属靶、绝缘介质靶材都可实现溅射镀膜，适配多种薄膜材料。
3. 基板自带旋转机构，膜厚均匀度控制在±15% 以内，保证试样成膜一致性。
4. 配置 MFC 质量流量控制器，搭配手动压力阀，实现工艺气体高精度压力调节。
5. SUS304 电解研磨真空腔体，腔体洁净度高，减少腔体放气对薄膜的污染。
6. 完整高真空排气系统（旋片泵 + 扩散泵），20 分钟内可达到 10⁻⁴Pa 高真空，满足科研实验真空条件。
7. 整机一体化，适合实验室摆放，针对 3 英寸及以下小试样开发，用于科研试样研发。

对比优势

1. 对比同级别进口溅射设备：整机体积紧凑，占地面积小，对实验室场地要求更低，适合高校、研究院小型实验室。
2. 同时兼容金属靶与绝缘靶，RF 射频模式，不用更换电源即可做介质薄膜实验，一机多用。
3. 基板*高 500℃高温加热，很多同规格小型溅射设备基板加热仅 200‑300℃，可做需要高温结晶的薄膜工艺。
4. 整套真空系统成套出厂，泵组、腔体、电源、气路集成，减少客户配套选型工作量。
5. 日本 SANVAC 原厂，腔体电解研磨处理，放气率低，成膜品质稳定，适合科研论文试样制备。
6. 手动操作系统，工艺参数直观可控，适合教学、实验研发，上手调试简单。

运用场景

1. 高校、科研院所实验室：材料学院、物理系，射频磁控溅射科研实验，教学演示。
2. 新材料研发：金属薄膜、氧化物、氮化膜、介电绝缘薄膜试样制备。
3. 半导体、光电行业小试样研发：3 英寸以内基片的前期工艺摸索，PVD 试样开发。
4. 传感器、光学薄膜、功能薄膜实验室小批量样品打样。
5. 真空镀膜相关教学实验设备。