SANVAC SP-11000R RF 射频磁控溅射设备

产品特点

1. 大功率 RF 射频系统：13.56MHz 射频电源搭载高速自动匹配，适配绝缘靶材（氧化物、陶瓷、氮化材料）溅射，起弧稳定，减少靶材打火现象。
2. 高真空腔体系统，漏率低，腔体洁净度高，可制备高纯度功能薄膜，适配半导体级工艺需求。
3. 基板一体化设计：旋转水冷加热样品台，兼顾低温工艺与高温退火，基板旋转保证大面积膜层均匀性。
4. 精准气路与工艺控制：多路 MFC 气体流量精准调控，支持氩气、氧气、氮气反应溅射，可存储多套生产配方，工艺重复性好。
5. 模块化可拓展架构：靶枪数量可升级，可加装离子源、LoadLock 进样室，满足研发小批量到中试生产不同需求。
6. 人机交互友好：全触摸屏操作，故障报警记录，工艺参数全程溯源，降低操作人员门槛。

对比优势

1. 射频功率储备充足：1000W 大功率 RF 输出，对比同级别机型，绝缘材料溅射速率更高，适合厚层介质膜沉积。
2. 兼顾研发与中小批量量产，既可以做实验室样品开发，也可承接小批量晶圆、光学元件镀膜，不用区分实验机和量产机。
3. 薄膜一致性**，大基板下膜厚偏差小，减少**率，适配光学、MEMS 对均匀性严苛要求。
4. 反应溅射稳定性强，匹配系统响应快，氧气氛围下不容易灭弧，适合氧化膜、氮化膜连续生产。
5. 模块化维护便捷，腔体、靶枪、电源组件拆装简单，降低后期运维成本与停机时间。

运用场景

1. 半导体与 MEMS：介质薄膜、绝缘层、传感器功能膜、晶圆表面薄膜沉积、MEMS 器件制备。
2. 光学镀膜：光学镜片增透膜、ITO 透明导电膜、氧化物光学多层膜、滤光片基材镀膜。
3. 新材料科研：高校研究院实验室，金属、陶瓷、氧化物、氮化物各类薄膜工艺开发。
4. 新能源行业：太阳能电池导电层、功能阻挡薄膜制备。
5. 精密器件：医疗器械基材镀膜、微电子元器件表面改性。