SANVAC SDM‑2 微波 CVD 金刚石薄膜沉积设备

产品特点

1. 微波等离子体激发：等离子体状态稳定，适合高质量多晶金刚石薄膜生长，成膜致密均匀。
2. 小型试验机型：设备体积紧凑，面向实验室研发、工艺打样，不需要产线级占地。
3. 晶圆基材适配：支持硅基衬底金刚石沉积，可实现 10μm 以上厚膜制备。
4. 集成真空系统：整机集成真空排气、气体流量控制、微波源、基片温度监控，成套即装即用。
5. 工艺可调性强：微波功率、气体配比、衬底温度可做参数调试，方便开发新工艺。

对比优势

1. 专注金刚石 CVD 工艺：相比通用 CVD 设备，针对金刚石生长做等离子体匹配，工艺调试门槛更低。
2. 日本原厂整机：真空腔体、微波源、气路组件一体化，整机稳定性优于国内改装设备，薄膜良率一致性好。
3. 研发小批量适配：不面向大产能生产，侧重科研、样品试制，性价比高于大型量产 CVD 设备。
4. 真空控制精度高：SANVAC 自有真空装置技术，腔体洁净度高，减少杂质对金刚石膜质量干扰。

运用场景

1. 高校、科研院所：金刚石薄膜材料研发、工艺实验、课题打样。
2. 工业研发：金刚石涂层刀具、MEMS 器件、散热金刚石膜前期样品试制。
3. 半导体行业：金刚石散热衬底、半导体金刚石材料前期工艺开发。
4. 新材料企业：超硬材料、光学金刚石薄膜前期验证。