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探头
日本SANVAC SBF‑H500TB高分子金属真空除气处理炉
产品型号:
产品简介:
产品定位:日本 SANVAC 真空脱气炉,用于半导体零部件、电极件、高分子、不锈钢工件真空加热脱气处理
详细介绍
SANVAC SBF‑H500TB高分子金属真空除气处理炉
项目
参数
型号
SBF‑H500TB
产品类型
真空脱气炉(真空除气炉)
极限真空
≤1.5×10⁻⁵Pa(常温、无工件、完成脱气)
抽气时间
20min 以内抽到 9.9×10⁻⁵Pa 以下
炉腔内腔尺寸
650 (W)×650 (D)×500 (H) mm,SUS304 材质,电解研磨
有效加热区域
450(W)×450(D)×300(H)mm
*高工作温度
500℃
加热方式
套管加热器,六面分区 PID 控温
主泵配置
涡轮分子泵,洁净排气
主阀形式
闸阀 Gate Valve,*大化分子泵抽速
漏率
10⁻¹⁰Pa・m³/s 级别(氦检)
气体释放率
10⁻⁶Pa・m³/s 级别(24h 升压测试)
控制
全自动流程,温度、压力记录监测
产品特点
六面分区 PID 控温
:炉体六面独立加热控温,炉内温度均匀性好,工件受热稳定,避免局部过热,适合精密零部件脱气处理
。
涡轮分子泵 + 闸阀结构
:采用闸阀替代普通角阀,充分释放分子泵抽气能力,获得高洁净高真空环境,无油污染风险。
腔体电解研磨 SUS304
:内壁电解抛光处理,出气量低、漏率优异,满足超高真空工艺要求。
整机全自动运行
:抽真空、升温、保温、降温、回大气整套流程一键执行,自带温度压力数据记录,降低操作门槛,方便工艺追溯。
大容量有效加热腔
:450×450×300mm 有效加热空间,可批量处理中小型精密工件,产能高。
对比优势
闸阀设计
:同级别设备多数用角阀,SBF‑H500TB 闸阀结构降低流阻,抽气效率更高,更快到达目标真空度。
六面分区加热
:对比单面 / 双面加热,温度均匀性更优,高分子、精密电极件不易变形,工艺一致性高。
极低漏放气指标
:腔体电解研磨工艺,漏率、出气量控制严格,适配半导体严苛洁净工艺,适合对残气敏感零部件。
日本原厂整机
:整套真空与温控系统匹配调试完成,无需额外改造,稳定性强,适合 24h 批量工艺使用。
一体化记录功能
:自带记录仪,工艺数据留存,满足半导体、科研实验室工艺存档需求。
运用场景
半导体行业
:半导体零部件、真空腔体配件、波纹管、夹具治具的真空高温脱气处理,降低工件出气,保障后续腔体真空性能。
电极元器件
:各类电极部件高温真空除气,提升器件稳定性。
高分子 / 聚合物材料
:高分子件真空加热除水汽、除可析出气体。
金属零部件
:SUS 不锈钢精密件、真空零件除气,减少真空环境下放气。
科研实验室、精密真空器件研发
:样品真空高温烘烤脱气工艺。