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探头
日本SANVAC E288 立式真空热处理炉
产品型号:
产品简介:
产品定位:日本 SANVAC 立式上下开盖式**真空热处理装置**,钼加热体,用于高温真空环境下工件烧结、退火、钎焊等工艺
详细介绍
SANVAC E288 立式真空热处理炉
项目
规格参数
炉腔尺寸
φ900mm×950mmH,SUS304,电解研磨处理
有效加热区
370×370×370mm
加热元件
Mo 钼加热器,6 层反射屏 + 1 层 SUS 屏蔽
*高温度
1200℃;常用工作温度:1150℃
温度均匀性
1150℃恒温,有效温区 ±10℃
真空指标
常温空载极限真空:10⁻⁴Pa;1150℃工作真空:≤10⁻³Pa;泄漏率 10⁻¹⁰Pa・m³/s 级别
真空机组
油旋片泵 2500L/min (50Hz)+ 油扩散泵 4900L/s;可选配干泵、分子泵、低温泵
控制系统
PID 程序控温,10 英寸触摸屏,自动 / 手动双模式
电源需求
主电源三相 AC200V 60kVA;仪表单相 100V 2kVA
设备本体外形
2020W×2250D×2280mmH
工艺气体
干燥氮气(标配 1 路)
冷却条件
冷却水 0.1‑0.3MPa,冷却能力≥48kW
产品特点
立式上下开盖腔体
,工件装卸方便,腔体内壁电解抛光,放气率低,保障高真空环境。
钼加热器 + 多层隔热反射屏
,热损失小,温场均匀,1150℃温区偏差仅 ±10℃,适合精密热处理。
完整高真空排气系统
,极限真空可达 10⁻⁴Pa,泄漏率极低,减少工件氧化、脱碳。
PID 程序温度控制器,支持多段升温‑保温‑降温工艺曲线,触摸屏人机交互,全自动流程运行,也支持手动操作。
模块化可改造:泵组可升级干泵、涡轮分子泵、低温泵;可增配冷却循环机、洁净间配套等选配组件。
整机日本原厂制造,真空检测采用氦检漏,设备稳定性高,适合长期连续工艺运行。
对比优势
大有效温区
:同温度等级设备中 370mm 方形有效加热空间更大,可处理批量工件。
优异温场均匀性
,钼加热 + 多层屏蔽,相比普通石墨加热炉,高温下挥发物少,不易污染工件,特别适合有色金属、精密合金。
高真空密封水准
,氦检漏 10⁻¹⁰Pa・m³/s 级别,优于市面多数同规格国产真空炉,抑制高温氧化。
灵活可升级真空系统
,可从油扩散泵直接更换无油真空机组,适配半导体、洁净工艺需求,设备生命周期长。
立式开盖结构,大件工件取放优于侧开门卧式炉,减少炉内隔热件磕碰损坏。
运用场景
金属材料真空退火、去应力、真空钎焊;
粉末冶金、金属零部件真空烧结;
特种合金、钼 / 钨等难熔金属高温真空热处理;
半导体零部件、精密机械零件真空高温除气处理;
科研院所材料研发、新材料工艺实验。