SANVAC UHF‑1150 超高真空热处理炉

产品特点

1. 钼材质加热组件：钼加热器搭配钼反射隔热屏，高温稳定性好，高温下出气少，不污染工件，适合对洁净度敏感零部件加工。
2. 无油冷泵抽气系统：干式泵 + 低温冷泵组合，完全规避油蒸汽返流，腔体内部无油污染，满足精密器件洁净热处理需求。
3. 多区独立温控：4 温区分区控温，大腔体内温度均匀性优异，整炉工件受热一致性高，减少产品**率。
4. 超高真空环境：可达 10⁻⁶Pa 级别，可实现无氧化光亮热处理，工件表面无需后续抛光清洗。
5. 程序控温：支持升降温工艺曲线编程，可存储多套工艺，适配小批量研发及批量生产。

对比优势

1. 洁净度优势：冷泵无油抽气，对比油扩散泵方案，无油返流，不会造成工件碳污染，适配半导体、电子元器件。
2. 温度均匀性：4 区温控，相比单区控温国产炉，大装载空间下温差更小，批量产品工艺一致性更好。
3. 高温真空兼顾：1150℃高温同时维持超高真空，很多同规格设备高温下真空度会明显恶化，该型号高温下仍维持 10⁻⁶Pa 级别。
4. 维护成本可控：钼加热部件更换便捷，冷泵维护简单，适合实验室研发 + 中小批量生产两用。
5. 日本原厂整机工艺：腔体焊接、内壁处理严格，出气率低，设备抽至目标真空速度更快。

运用场景

1. 半导体零部件、真空器件超高真空退火处理
2. 金属、合金零部件光亮真空退火、去应力处理
3. 航天、**精密零件真空脱气
4. 硬质合金、特种材料真空烧结
5. 科研院所新材料研发、试样热处理实验
6. 电子电极、金属弹片无氧化高温处理