SANVAC SVM-20000 高频感应加热真空熔解炉

产品特点

1. 全磁悬浮轴承结构，无油润滑，无油脂挥发，保障腔体洁净，不会污染工艺腔室，适配半导体洁净制程。
2. 超大 20000L/s 氮气抽速，大腔体快速抽高真空，缩短设备抽气节拍，提升产线效率。
3. 转子采用复合涡轮 + 螺旋槽叶片，对氩气、氢气压缩比**，适配 PVD、刻蚀、离子源排气工况。
4. 振动极低，适合对振动敏感的镀膜、光学、分析仪器设备。
5. 支持外部通讯接口，可接入设备 PLC 系统，实时监控转速、温度、报警状态，便于自动化产线集成。
6. 抗工艺粉尘能力优化，搭配吹扫气接口，可减少反应生成物沉积，延长连续运行寿命。

对比优势

1. 大腔体性价比优势：同等 20000L/s 级别，相比欧美品牌，采购成本与后期维修成本更低，日本本土工艺，稳定性接近一线日系分子泵。
2. 磁悬浮免维护，不需要定期更换轴承油脂，大幅减少产线停机保养时间。
3. 对工艺气体适应性更强，可兼容部分腐蚀性工艺气体，适合半导体镀膜、大型真空腔体。
4. 控制器集成报警保护：过温、过流、前级异常、震动异常自动停机保护，降低泵体损坏风险。
5. 安装自由度高，不受安装角度限制，方便大型真空设备结构设计。

运用场景

1. 半导体行业：大型 PVD 镀膜腔体、离子刻蚀设备、Load‑Lock 超大真空腔、材料处理真空设备。
2. 光学镀膜：大型光学镀膜机、大面积基板溅射镀膜。
3. 科研高能物理：大型实验真空腔体、离子源、加速器设备。
4. 工业真空：大型真空热处理、材料表面处理、大型真空冶金腔体。