MKS 626D01TDE 电容薄膜真空计

产品定位

MKS 626D01TDE 属于 Baratron® 系列非加热型**电容压力计，满量程 1Torr，KF16 接口，是**工艺级真空压力测量变送器。面向半导体、镀膜、科研实验室等高要求工况，属于行业标杆级真空测量器件，在精密真空工艺领域具备极强品牌依赖性，替代门槛高，用于对压力测量精度、重复性、耐腐蚀性有严苛要求的真空腔体，实现不受气体组分影响的**压力监测，适配自动化设备集成，是工艺良率保障的核心测量部件。

核心技术和原理

采用电容薄膜（Baratron）传感技术，传感器内部 Inconel 镍基合金隔膜将工艺侧与内部高真空参考腔隔开。当腔体压力发生变化，隔膜产生微小形变，隔膜与后方固定电极间距改变，引起电容值发生变化；**信号调理电路将电容变化转化为 0‑10VDC 线性模拟输出信号，15 针 D‑Sub 接口输出；内部 getter 维持参考腔超高真空，实现**压力测量，测量结果与气体种类、气体成分无关，不受气体热传导特性干扰，内置温度补偿电路降低环境温度漂移带来的测量误差。

产品优势与特点

• 测量精度高，读数精度可达 0.25%，分辨率可达满量程 0.001%，测量重复性优异，迟滞小，响应速度＜20ms。
• 镍基 Inconel 合金湿区材质，耐腐蚀性强，可适配腐蚀性工艺气体，双层焊接结构，**性高，可承受 45psia 过压，抗系统意外冲击。
• 气体无关测量，无论工艺气体成分，输出真实压力，非常适合半导体特种工艺气体环境MKS。
• 长期输出稳定性好，零点漂移低，降低频繁校准频次，提升产线稼动率。
• KF16 标准真空法兰，安装方向不受限制，±15VDC 供电，0‑10VDC 标准模拟输出，方便对接工控、MKS 控制器、采集系统。
• 非加热型，无需预热，0‑50℃环境工作，RoHS 合规，适配设备 OEM 集成与实验室搭建。

主要应用场景

• 半导体行业：刻蚀设备、CVD 化学气相沉积、PVD 物**相沉积、ALD 工艺腔体压力监测，芯片制造、晶圆处理真空压力闭环监控。
• 镀膜设备：光学镀膜、光伏镀膜、薄膜沉积设备真空腔压力测控。
• 科研实验室：材料科研真空腔体、气体激光器、真空实验平台、高校研究院真空系统。
• 精细化工：真空蒸馏、腐蚀性介质真空工艺、特种气体处理系统。
• 新能源行业：电池材料真空制备、光伏器件真空工艺。
• 工业重工：真空炉、真空热处理、冻干设备、工业真空成套装备压力检测。
• 光学行业：光学器件真空镀膜、光学元件制备真空测控。