MKS 722C02TCE2FJ 紧凑通用型电容式压力计

一、产品定位

722C 是 MKS 旗下 Baratron 系列中的紧凑型通用型电容薄膜真空计，面向需要在 1 Torr 至 25,000 Torr 宽量程内进行稳定、可重复压力测量的工业与科研设备。722C02T 特指满量程 2 Torr 的子型号，属于低真空段精密测量档位，常作为老款 Baratron 仪表的直接替换件，也用于新设备的紧凑化设计。整体定位是兼顾精度、抗过压能力与成本的标准化真空测量前端，广泛嵌入工艺设备的真空腔体与管路中。

二、核心技术与原理

核心是 Baratron 电容薄膜传感技术。传感器内部有一片极薄的金属膜片，一侧接触被测工艺气体，另一侧为密封参考腔；参考腔后方装有电极。当工艺侧与参考腔之间出现压差，膜片发生微小形变，改变膜片与电极之间的距离，从而引起电容值变化，再由内置信号调理电路转换成与压力成正比的 0–5 VDC 或 0–10 VDC 模拟输出。由于信号来源于膜片的物理形变而非气体本身的电离或热传导特性，测量结果与被测气体的种类、成分无关，这是电容式真空计区别于电阻规、电离规的关键特征。722C 采用真空参考结构，输出对应以真空为基准的压力值。

三、产品优势与特点

• 读数精度达 ±0.5% of Reading（含非线性、迟滞与不重复性），在量程低端仍能保持较好输出，优于按满量程标定的普通传感器。
• 全金属、全焊接结构，接触介质部分仅为 Inconel 镍基合金与不锈钢，耐腐蚀性强，适合含腐蚀气体的工艺环境。
• 过压上限为 45 psia 或 2 倍满量程（取较大者），爆破压力达 10 倍满量程或 100 psi，可承受管路压力尖峰，降低误损与零点漂移风险。
• 响应时间小于 20 ms，适合快速工艺闭环控制。
• 体积小巧、接口灵活，提供 0.5 in 管、VCR、NW16 ISO-KF 等多种机械接口，以及 DB9、端子排、Bayonet 等电气接口，便于改造替换。
• 工作温度 0–50°C（1/2 Torr 档为 15–40°C），零点温漂低至 0.008% FS/°C，长期稳定性好。
• 符合 CE 与 RoHS 规范，供电 13–32 VDC，集成度高，可直接接入 PLC 或工艺控制器。

四、主要应用场景

• 半导体制造：刻蚀、CVD、PVD、ALD、MOCVD、离子注入等工艺腔体的压力监测与闭环控制。
• 真空镀膜：磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发、光学镀膜、卷对卷镀膜设备。
• 光伏与显示：太阳能电池镀膜、TFT-LCD/OLED 面板沉积工艺。
• 精细化工与特种气体：含氯、氟、氨等腐蚀介质的反应釜、蒸馏塔、管路压力测量。
• 新能源：锂电池真空干燥、注液、化成，燃料电池与氢能相关真空工艺。
• 真空冶金与热处理：真空炉、真空钎焊、真空烧结、真空退火、晶体生长。
• 科研与实验室：高校与研究所的真空系统、气体激光器、表面分析设备、冷冻干燥。
• 工业与重型装备：汽车零部件真空测试、瓶体镀膜、真空包装、大型真空管路监控。