MKS 722C12TCE2FA 紧凑型通用绝压电容压力计

一、产品定位

MKS 722C12T 属于 722C 通用型绝压电容薄膜真空规系列，是工艺级真空测量的基础款单元，定位在 "测量准确、重复性好、可靠性高、成本可控" 的通用场景。722C12T 表示该型号满量程为 100 Torr，带模拟信号输出，可直接接入各类设备控制系统。Baratron® 电容薄膜技术是真空压力测量领域的开创性技术路线，长期被半导体、镀膜等行业视为工艺压力测量的参考基准，因此该型号既适合新设备配套，也可作为老旧真空规的 "即插即用" 替换件。

二、核心技术与原理

• 电容薄膜测压原理：内部金属薄膜（Inconel 镍基合金）受压力作用产生微变形，与固定电极构成可变电容，通过检测电容变化反算压力值。
• 测量真实压力：直接测量 "力 / 单位面积"，读数不受被测气体种类影响，不依赖气体的热导或电离特性 —— 这一点与 Pirani 热偶规、电离规有本质区别，因此同一只规可通用于多种工艺气体。
• 信号与接口：供电 +13~+32 VDC，输出 0–10 VDC 正比模拟信号，响应时间小于 20 ms，易于接入 PLC、采集卡与过程控制系统。

三、产品优势与特点

• 精度表现稳定：量程内 ±0.5% of reading（含非线性、迟滞、重复性）。
• 耐腐蚀全金属结构：全金属、全焊接，接触气体面仅有 Inconel 与不锈钢，抗腐蚀性强，适合侵蚀性工艺气体。
• 抗过压能力强：过压极限达 45 psia 或 2 倍量程，可耐受管路压力尖峰，且不会导致零位漂移、性能下降。
• 温漂小：零点温度系数低，长时间运行稳定性好。
• 紧凑省空间：体积小、占用面板面积少，利于设备小型化和紧凑安装。
• 通用兼容：可替换多种早期 Baratron® 型号，便于维护与备件管理。

四、主要应用场景

• 半导体制造：刻蚀、CVD、PVD、离子注入、高纯气体输送等工艺腔体的真空度控制与监测。
• 真空镀膜 / 薄膜沉积：镀膜机腔压测量、溅射 / 蒸发镀膜过程压力控制。
• 光学光伏：光学镀膜、光伏 PECVD、HJT、钙钛矿等产线真空压力控制。
• 科研与实验室：真空系统搭建、材料研究、表面科学、物理化学实验、真空教学装置。
• 制药与检漏：冷冻干燥（冻干）机真空度控制、氦质谱检漏仪的参考压力测量。
• 工业化工与精细化工：反应釜、分子蒸馏、蒸馏塔等真空过程压力控制。
• 新能源：锂电池真空干燥、电池极片真空烘烤等环节的真空监测。
• 重工业装备：真空炉、真空烧结、热处理真空设备的压力测量。