MKS 722C13TGA2FA 紧凑型通用绝压电容压力计

一、产品定位

MKS 722C 是 MKS Instruments（全球真空测量领域的**品牌）推出的通用型绝压电容薄膜真空计（Baratron）。722C13T 是 722C 系列中量程 1000 Torr、NW16 ISO-KF 接口的型号。它的定位是：面向半导体、镀膜、真空工艺等严苛过程的紧凑型、高性价比过程压力测量仪表—— 既适合新设备配套，也适合老设备改造替换（可即插即用替换早期 Baratron 型号）。

二、核心技术与原理

采用 Baratron电容薄膜测量原理：张紧的金属薄膜在压差作用下发生形变，改变薄膜与固定电极间的电容，通过检测电容变化换算出压力。

• 对气体成分不敏感：电容式测量不依赖介质类型，工艺气体无论氮气、氩气、氟化物还是其他混合气，读数都不受影响 —— 这是它区别于热传导真空计的核心优势。
• 全金属全焊接结构：接触工艺气体的表面全部为 Inconel（镍基合金）和不锈钢，耐腐蚀、抗污染，适配多种过程气体。
• 表面光滑处理（<10 Ra）：符合洁净工艺要求，减少颗粒残留与吸附。

三、产品优势与特点

• 精度出色：0.5% 读数精度（含非线性、迟滞、重复性误差）
• 响应快速：响应时间 <20ms，适合动态过程控制
• 温漂低：零点温度系数 0.008% F.S./°C，长期稳定性好
• 抗过压强：过压上限 45 psia 或 2×F.S.，爆破压力达 10×F.S. 或 100 psi，耐受管路压力尖峰且不影响零点重复性
• 体积紧凑：小尺寸设计，节省设备空间
• 易集成：13–32 VDC 供电，0–10 VDC 线性模拟输出，可选多种接口与电气连接，方便对接控制器 / 显示仪表
• 配套保障：2 年质保，符合 CE、RoHS 要求

四、主要应用场景

• 半导体制造：刻蚀（Etch）、CVD、PVD、ALD、离子注入等设备的腔体压力测量与过程控制
• 真空镀膜：溅射、蒸发镀膜、光学镀膜、光伏薄膜电池产线的压力监控
• 工业化工与重装备：化工反应过程、真空炉、热处理炉、真空输送与干燥系统
• 科研与实验室：真空实验装置、压力计量校准、高校与研究院所的真空系统
• 新能源：电池材料真空工艺、新能源产线真空环节的压力监测