核心型号与参数（50Hz）

三、关键特性

• 大抽速 + 高真空：抽速覆盖800–5700m³/h，极限真空 **≤0.01mbar**，显著提升真空系统抽气效率。
• 坚固耐用：五点轴承 + 双油箱设计，配氮气气障密封，阻隔腐蚀性气体进入油箱，延长寿命，适配高温、高压差工况。
• 防污染设计：可选单点 / 五点机封 + 迷宫密封，杜绝介质交叉污染，适合半导体洁净与化工腐蚀场景。
• 低振动低噪音：精密研磨齿轮 + 动态平衡转子，运行平稳，振动 <4mm/s，噪音≤75dB (A)。
• 材质灵活：标准球墨铸铁，可选不锈钢 / 特氟龙涂层，适配酸碱、有机溶剂蒸气。

四、工作原理

五、半导体典型应用

1. 沉积 / 刻蚀前级增压：与GXS 干螺杆泵组合，为 CVD、PVD、刻蚀设备提供高洁净、大流量真空环境。
2. Load-Lock 腔抽气：快速建立晶圆传输腔真空，缩短节拍时间，提升产能。
3. 离子注入 / 检测设备：提供稳定高真空（10⁻⁴–10⁻⁶mbar），保障工艺精度。
4. 真空干燥 / 脱气：晶圆、光电子器件的真空烘干与除气，去除水汽与杂质气体。

六、MB vs EH/QMB 系列（爱德华罗茨泵对比）

• MB 系列：重型大抽速（800–5700m³/h），五点轴承 + 双油箱，适合半导体、化工、冶金等高负荷场景。
• EH 系列：中型（250–4200m³/h），**HK 液力驱动，可从大气压启动，无需旁路 / 变频，适配镀膜、真空炉。
  • QMB 系列：轻型（250–1200m³/h），结构紧凑、低噪音，适合实验室、小型镀膜等轻量场景。

  七、使用要点

  • 必须配前级泵：优先GXS 干螺杆泵（半导体洁净）或E2M 旋片泵（工业通用），前级抽速需≥罗茨泵的 1/4。
  • 环境与介质：温度 5–40℃，禁吸液体、大量粉尘；腐蚀性气体需选PTFE 涂层 + 氮气吹扫。
  • 维护周期：齿轮油6 个月更换，密封件12 个月检查，转子间隙2 年校准。
  
  
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