核心型号与参数（50/60Hz）

1. 单泵（独立使用 / 前级）

2. 泵组（GXS + 罗茨增压，大流量）

• 无油高洁净：真空腔无油润滑，轴承 / 齿轮箱独立密封，杜绝油污染，满足半导体ISO 14644-1 Class 1洁净要求。
• 强耐腐 + 抗粉尘：锥形螺杆 + 逐步压缩设计，适配含氟 / 氯 / 酸碱气体（如刻蚀尾气）；可处理5L 液体冲击 + 1kg 细粉尘，标配氮气吹扫防腐蚀。
• 高效稳定：非悬臂式转子支撑，振动极低（≤0.1mm）；水冷电机 + 智能温控，长期 100% 负载运行，维护间隔5 年。
• 智能控制：集成AUC 绿色模式（节能 30%）、自动启停 / 自清洁；支持RS485/Modbus远程监控，适配 Fab 自动化系统。

四、工作原理

五、半导体典型应用

1. 刻蚀工艺（干法刻蚀 / ICP/RIE）：主前级泵，处理含氟 / 氯尾气，耐等离子体腐蚀，保障腔体真空稳定（10⁻³–10⁻⁴mbar）。
2. CVD/ALD（薄膜沉积）：为PECVD/LPCVD提供无油前级，处理硅烷 / 氨气 / TEOS等气体，防颗粒污染，提升薄膜均匀性。
3. 外延（EPI）：8–12 英寸硅外延设备标配，大抽速快速建真空，处理高温砷化氢 / 磷烷尾气，**稳定。
4. Load-Lock / 传输腔：大腔体晶圆传输系统主抽泵，搭配罗茨泵实现10 分钟内从大气压到 10⁻⁴mbar，提升产能。

六、GXS vs XDS（爱德华干泵选型）

七、使用要点

• 安装：水平安装（不可垂直），入口ISO100，排气NW40，需水冷（7–12L/min）。
• 介质：禁吸大量液体 / 粘性粉尘；腐蚀性气体必选PTFE 涂层 + 氮气吹扫（流量 6L/min）。
• 维护：齿轮油5 年更换，密封件2 年检查，螺杆间隙5 年校准；日常监控温度 / 振动 / 电流