一、核心定位与结构

• 类型：四级干式爪式真空泵（无油、无密封液）。
• 结构：爪形转子 + 水冷电机 + 氮气吹扫 + 防腐涂层（特氟龙）。
• 定位：半导体中低真空主泵，适配腐蚀 / 粉尘工况，性价比高。
• 升级替代：QDP → iQDP（智能版） → iXH（新一代）。

二、主流型号与关键参数

QDP40（基础款）

• 抽速：44–55 m³/h（50/60Hz）
• 极限真空：≤2.5×10⁻² mbar（25 mTorr）
• 功率：2.2 kW；进气 ISO40；排气 NW40
• 重量：约 172 kg；噪音＜70 dB (A)

QDP80（主力款）

• 抽速：80–96 m³/h（50/60Hz）
• 极限真空：≤3×10⁻² mbar（20 mTorr）
• 功率：4.0 kW；进气 ISO63；排气 NW40
• 重量：约 250 kg；噪音＜70 dB (A)

组合泵（QDP+QMB 罗茨增压）

• QDP40+QMB250：抽速 171 CFM，极限真空 5 mTorr，功率 4.4 kW
• QDP40+QMB500：抽速 251 CFM，极限真空 5 mTorr，功率 4.4 kW
• QDP80+QMB500：抽速 ~250 m³/h，极限真空 ≤1×10⁻² mbar

三、核心特点

1. 无油高洁净：泵腔无油，零油雾返流，适配半导体 / 镀膜等高洁净场景。
2. 强耐腐蚀：特氟龙涂层 +*大 50 SLM 氮气吹扫，抵御 Cl/F 基腐蚀气体与粉尘。
3. 水冷低噪：全封闭水冷电机，噪音＜70 dB，适合洁净室。
4. 坚固耐用：结构简单、零件少、无易损件，维护周期长、寿命长。
5. 控制简易：基础版手动吹扫 / 独立控制模块；升级 iQDP 内置智能电控，支持远程监控。

四、典型应用场景

• 半导体：Loadlock、溅射、刻蚀（干法）、LPCVD、PECVD、MOCVD。
• 其他：光伏、FPD、精密镀膜、科研、化工（含腐蚀 / 粉尘）。

五、QDP vs iQDP vs iXH 对比

• QDP（经典款）：手动吹扫、独立控制、性价比高、适合老旧设备 / 预算有限场景。
• iQDP（智能款）：内置智能控制、远程通讯、故障诊断、能效提升 10%、替代 QDP。
• iXH（新一代）：更高抽速（100–2900 m³/h）、更强防腐、智能集成、绿色节能、适配先进制程。