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EBARA 荏原 TND-Single-P1~P4燃烧式半导体废气处理装置
产品型号:TND--Single-P1~P4
产品简介:

EBARA 荏原 TND 型是燃烧式半导体废气处理装置(Abatement),专门处理PFCs(氟化物)、VOC、易燃易爆及腐蚀性尾气,常与 EBT/ET 分子泵、EST 干式真空泵配套,属G-WS 系列的**燃烧式升级版。

详细介绍

一、核心定位与型号

  • 类型:燃烧 + 湿式洗涤组合式(非真空泵)
  • 主力型号
    • TND-Single:燃烧 + 湿式(基础款)
    • TND-Single Plus:湿式 + 燃烧 + 湿式(高粉尘 / 高腐蚀工艺款)
  • 处理对象PFCs(CF₄/SF₆)、SiH₄、PH₃、NH₃、HCl、HF、HBr、VOC等 G-WS 无法处理的难燃 / 有毒气体。

二、核心特点

  • 高效处理 PFCs:**低 NOx 燃烧技术,PFC 分解率≥99%,低 NOx / 低 CO 排放。
  • 超长维护周期:自动清粉 + 湿壁防堵 + 罐内搅拌,维护间隔为传统机型3–6 倍,大幅降本。
  • 副产物强适配:Plus 型前置湿式段,预处理 SiN/TiN 等粉尘,杜绝燃烧器堵塞
  • 低运行成本:新型燃烧器,热损低、能耗少;支持城市燃气 / 丙烷,适配全球气源。
  • **合规:SEMI S2、CE、NRTL 认证;防爆设计 + 熄火保护 + 泄漏监测
  • 紧凑易集成:单台处理1–4 路尾气,机柜式设计,维护仅需前方空间,适配 sub‑fab 狭小区域。

三、关键参数(TND‑Single/Single Plus)

项目 参数
*大处理风量 400–1200 L/min(单燃烧器)
处**体 PFCs、SiH₄、PH₃、NH₃、HCl、HF、HBr、VOC 等
燃烧方式 低 NOx 强制通风燃烧(温度 800–1100℃)
冷却 / 用水 湿式循环水:10–20 L/min(自来水 / 纯水)
电源 3 相 AC200V,5–10 kW(不含燃烧器)

四、与 G‑WS 系列的区别

  • G‑WS纯湿式,仅处理水溶性气体(HF/HCl/NH₃)不能处理 PFCs/SiH₄,成本低。
  • TND燃烧 + 湿式全气体覆盖(含 PFCs/SiH₄),维护周期长,适合半导体**工艺(刻蚀 / CVD / 沉积)

五、典型应用

  • 半导体:刻蚀(Etch)、PECVD、ALD、外延(Epi)、离子注入等含 PFC / 硅烷工艺。
  • 配套泵型:EBT/ET 分子泵、EST 干式真空泵下游,处理高浓度 / 腐蚀性尾气。

六、选型建议

  1. 气体种类:含PFCs/SiH₄/PH₃必选 TND;仅水溶性气体选 G‑WS 更经济。
  2. 粉尘负荷:高粉尘(如 TiN/SiN)优先TND‑Single Plus
  3. 风量匹配:按真空泵总排气量 ×1.2–1.5 倍选型(如 800 L/min)