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EBARA 荏原 TND-Single-P1~P4燃烧式半导体废气处理装置
产品型号:TND--Single-P1~P4
产品简介:
EBARA 荏原 TND 型是燃烧式半导体废气处理装置(Abatement),专门处理PFCs(氟化物)、VOC、易燃易爆及腐蚀性尾气,常与 EBT/ET 分子泵、EST 干式真空泵配套,属G-WS 系列的**燃烧式升级版。
详细介绍
一、核心定位与型号
类型
:燃烧 + 湿式洗涤组合式(非真空泵)
主力型号
:
TND-Single
:燃烧 + 湿式(基础款)
TND-Single Plus
:湿式 + 燃烧 + 湿式(高粉尘 / 高腐蚀工艺款)
处理对象
:
PFCs(CF₄/SF₆)、SiH₄、PH₃、NH₃、HCl、HF、HBr、VOC
等 G-WS 无法处理的难燃 / 有毒气体。
二、核心特点
高效处理 PFCs
:**低 NOx 燃烧技术,
PFC 分解率≥99%
,低 NOx / 低 CO 排放。
超长维护周期
:自动清粉 + 湿壁防堵 + 罐内搅拌,维护间隔为传统机型
3–6 倍
,大幅降本。
副产物强适配
:Plus 型前置湿式段,预处理 SiN/TiN 等粉尘,
杜绝燃烧器堵塞
。
低运行成本
:新型燃烧器,热损低、能耗少;支持城市燃气 / 丙烷,适配全球气源。
**合规
:SEMI S2、CE、NRTL 认证;
防爆设计 + 熄火保护 + 泄漏监测
。
紧凑易集成
:单台处理
1–4 路尾气
,机柜式设计,
维护仅需前方空间
,适配 sub‑fab 狭小区域。
三、关键参数(TND‑Single/Single Plus)
项目
参数
*大处理风量
400–1200 L/min
(单燃烧器)
处**体
PFCs、SiH₄、PH₃、NH₃、HCl、HF、HBr、VOC 等
燃烧方式
低 NOx 强制通风燃烧(温度 800–1100℃)
冷却 / 用水
湿式循环水:
10–20 L/min
(自来水 / 纯水)
电源
3 相 AC200V,
5–10 kW
(不含燃烧器)
四、与 G‑WS 系列的区别
G‑WS
:
纯湿式
,仅处理
水溶性气体(HF/HCl/NH₃)
,
不能处理 PFCs/SiH₄
,成本低。
TND
:
燃烧 + 湿式
,
全气体覆盖(含 PFCs/SiH₄)
,维护周期长,适合
半导体**工艺(刻蚀 / CVD / 沉积)
。
五、典型应用
半导体:
刻蚀(Etch)、PECVD、ALD、外延(Epi)、离子注入
等含 PFC / 硅烷工艺。
配套泵型:
EBT/ET 分子泵、EST 干式真空泵
下游,处理高浓度 / 腐蚀性尾气。
六、选型建议
气体种类
:含
PFCs/SiH₄/PH₃
必选 TND;仅水溶性气体选 G‑WS 更经济。
粉尘负荷
:高粉尘(如 TiN/SiN)优先
TND‑Single Plus
。
风量匹配
:按真空泵总排气量 ×1.2–1.5 倍选型(如 800 L/min)