一、核心系列与型号分类

1. 标准型 CRYO‑U（通用款）：U4H/U6H/U8H/U10H/U12H/U16/U20H/U22H/U30H，常规抽速，性价比高
2. HSP 高氢型：U8HSP/U10HSP/U12HSP，氢气抽速大幅提升，适配溅射、PECVD、氢工艺
3. HL 长容量型：U8HL/U12HL，更大气容量、更长再生周期，适合水汽多、粉尘多工况
4. WB/P 大型工业型：U22WB/U20P，超大抽速，用于半导体面板、大型真空炉
5. 配套压缩机：C10T/C15R/C40R，泵头 + 压缩机为整套系统

型号氮气抽速 (L/s)氢气抽速 (L/s)水抽速 (L/s)进气法兰配套压缩机用途

CRYO‑U6H75011002100UVG‑150C10T实验室、小型镀膜、科研

CRYO‑U8H170027004000UVG‑200C10T通用溅射、蒸镀、中小型设备

CRYO‑U8HSP170032004000UVG‑200C10T高氢工艺、半导体镀膜

CRYO‑U10H240036006900UVG‑253C15R中型量产镀膜、分析仪器

CRYO‑U12H4100600012000UVG‑300C15R大型溅射、面板设备

CRYO‑U22H115001400039000UVG‑500C40R半导体、光伏、大型真空腔体

三、核心特点（对比分子泵、离子泵优势）

1. 极限真空极高：可达10⁻⁹Pa，无油、无振动、无电磁干扰，真空*洁净
2. 超大抽速（尤其水、氩气）：水汽抽速碾压分子泵，适合含水汽、氩气工艺
3. 结构简单、寿命长：GM 制冷机，维护周期 16000 小时，故障率低
4. 无油污染：泵腔无油，完全满足半导体、光学、医疗精密洁净要求
5. 可多台并联：*多 3 台联动，快速建立超高真空
6. 适配性广：可兼容 CTI 同类低温泵，替换升级方便

四、典型应用

• 半导体 / 面板：溅射、PECVD、刻蚀、晶圆制程
• 光学真空：**镀膜、离子镀、蒸镀、精密透镜
• 科研仪器：质谱、扫描电镜、同步辐射、真空腔体
• 新能源：锂电、光伏、真空热处理、检漏系统