一、核心特点与原理

1. 工作原理

2. 核心优势

• 无机械滑动部件，故障率极低、寿命长、可 24h 连续量产
• 临界背压高，前级泵压力适应范围宽，启动快
• 自带防返油机构，减少油污染腔体
• 可搭配 2 种泵油、2 种加热器，按需调节抽速与极限真空
• 结构紧凑、拆装清洗简单、维护成本低
• 极限真空：2.6×10⁻⁴ ~ 1×10⁻⁵ Pa

3. 短板

• 需水冷；存在轻微油返油风险，精密镀膜需搭配冷阱（CRYO‑T）
• 不适合超高真空、半导体洁净工艺（优先分子泵 / 低温泵）

二、主流型号 & 核心参数（氮气抽速 L/s，法兰 VG/ISO）

ULK‑04AVG1005500.151.07.5小型蒸发、实验室、小腔体镀膜

ULK‑06AVG15012000.351.513.5标准光学镀膜、磁控溅射

ULK‑10AVG25034000.82.547中型量产镀膜、大型腔体

ULK‑14AVG35054001.53.556大型真空产线、蒸发设备

三、典型应用

1. 真空蒸发镀膜、光学镀膜、电阻蒸发、热蒸发设备
2. 科研高真空实验、真空热处理、检漏粗抽
3. 传统工业真空产线、中小型腔体量产排气
4. 搭配CRYO‑T6/T8 冷阱，可大幅降低返油，提升膜层质量

四、ULK 扩散泵 vs UTM 分子泵 vs CRYO 低温泵 选型对比

1. ULK 扩散泵：抽速大、****、24h 量产；需水冷、有油污染风险，适合传统镀膜
2. UTM 分子泵：无油洁净、抽水弱、价格高，适合精密镀膜、半导体
3. CRYO 低温泵：抽水极强、极限真空*高，适合超高真空、无油洁净场景