SDP 系列 螺杆式干式真空泵（主力爆款，半导体通用）

原理

主流型号（抽速 m³/h）

• SDP‑250、SDP‑400、SDP‑600、SDP‑800、SDP‑1200

核心特点

1. 无油清洁，无返油污染，满足半导体洁净要求
2. 可耐轻微粉尘、酸性 / 腐蚀性气体（刻蚀、CVD）
3. 水冷 / 风冷可选，低噪音、低振动
4. 支持 EtherCAT / RS485，可接入自动化产线

适用

二、CDP 系列 爪式干式真空泵（紧凑型、小型腔体**）

原理

主流型号

核心特点

• 体积紧凑，适合设备内置、小型真空腔体
• 无油，低粉尘耐受性，日常维护简单
• 性价比高，中小型真空设备标配

适用

三、VDP 系列 涡旋式干式真空泵（超高洁净、微流量精密型）

原理

主流型号

核心特点

1. 超洁净，几乎无颗粒产生，适合超精密制程
2. 振动极低、噪音小
3. 小抽速，用于前级预抽、腔体粗抽

适用

四、MDP 系列 多级罗茨干式真空泵（大流量、高真空干式机组）

原理

主流型号

核心特点

• 超大抽速，适合大型腔体、连续生产线
• 干式无油，耐腐蚀，可处理工艺废气
• 适合长时间 24h 连续运转

适用

五、防腐专用系列（半导体刻蚀 / 沉积专用）

SDP‑O / CDP‑O 防腐型

• 转子 + 腔体做特氟龙涂层、耐氟 / 氯 / 酸性气体
• 专门应对刻蚀、PECVD、蚀刻废气、副产物粉尘
• 大阪真空干式泵防腐版本在日系品牌里口碑极强

六、四大干式泵快速选型对比

1. 精密洁净、小流量、超高真**级 → VDP 涡旋式
2. 中小型腔体、性价比、设备内置 → CDP 爪式
3. 半导体通用主力、耐腐蚀、中等大流量 → SDP 螺杆式
4. 大型产线、超大抽速、量产设备 → MDP 多级罗茨式