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进口VTEX CV系列半导体专用防爆爆破片
产品型号:F/FV 高压型
产品简介:

日本 VTEX(株式会社ブイテックス)半导体全系列产品 VTEX 主营超高真空洁净阀门 + 防爆爆破片,是 TEL、应用材料 AMAT、日立高新、ASM、爱发科等半导体设备原厂配套阀件供应商,产品适配 8/12 寸晶圆蚀刻、PVD/CVD、离子注入、ALD、封装全制程。

详细介绍
Penduroll 摆阀系列(3 子系列:IPV 单工位、3PV 三位可调、APC 压力控制型,泵口排气主力)

1.IPV 单位置摆阀(标准气动全开 / 全关,DN40~DN400 法兰规格)

型号:IPV-40/63/80/100/160/200/250/320/400

参数

  • 寿命:<DN350 规格 50 万次、大口径 30 万次;漏率≤5×10⁻¹⁰Pa・m³/s;O 圈 FKM 密封,单螺栓快拆检修

应用

干式泵 / 分子泵 ↔ 工艺腔排气总管、刻蚀机尾气支管隔断、去胶 Ashing 腔体抽气阀

2.3PV 三位摆阀(中间开度可调:全关 / 半开 / 全开,半导体压力微调标配)

型号:3PV-63/80/100/160/200(160A~500A 电控模组)

参数

气动 + 位置传感器,中间开度无极限位,配合 APC 控制器实现腔室真空度闭环调节;寿命 50 万次

应用

PVD 溅射腔体气压微调、CVD 沉积腔体工艺压力精准控制、ALD 前驱体腔调压(半导体成膜核心)

3.APC-Penduroll 智能摆阀(带 LEARN 容积测算功能)

参数:可接 2 路真空规,自动测算腔体容积、电导度 0~100% 连续可调

场景:先进制程 7/5nm 蚀刻机、高压离子注入腔体恒压控制、特种气体负压腔体稳压

矩形插板 Gate Valve(直动插板阀,大腔体主隔离,DN50~DN400 全规格)

型号:GV-DN50/80/100/150/200/250/300/400(气动 / 电动两款)

参数

  • 漏率:阀体≤4×10⁻¹¹Pa・m³/s;阀体耐温*高 150℃,驱动≤90℃;FKM 全周密封,低粒子掉落

应用

  1. 高温外延炉 / 退火炉主腔体大门隔断、LPCVD 管式炉真空主阀
  2. 封装设备真空烤箱腔体隔离、晶圆键合机真空腔主隔断

四、小型角阀 / 圆形截止阀(小口径气体管路,NW16/NW25/NW40)

型号:AV-NW16/25/40(直角真空角阀)

参数

微型气动,漏率≤1×10⁻⁹Pa・m³/s,耐氟化 / 氯化工艺气体

应用

  • 特种气体源柜(SiH₄、WF₆、ClF₃)支管通断、腔体检漏口旁路阀、真空计隔离阀、尾气处理小管路开关

五、CV 系列半导体专用防爆爆破片(泄压**件,5 个子型号,VTEX 原厂**产品线)

全型号:CV 标准型、CV-S 高真空型、CV-I 耐高温型、F/FV 正向型、FS/FVS 复合低压型

1.CV(基础平片型|半导体腔体标配)

  • 爆破压力:0.035~0.5bar(矩形)、0.035~1.03bar(圆形);工作压力≤70% 爆破值;耐温 - 40~250℃
  • 场景:蚀刻工艺腔、常压 ALD 腔体、废气缓冲罐超压防爆

2.CV-S(预拱型高真空款)

  • 耐高负压 + 压力脉动,工作压力 75% 爆破压力;适配反复抽真空腔体
  • 场景:PVD 溅射腔体、分子泵前级缓冲罐、高压气源钢瓶防爆

3.CV-I(带隔热夹层耐高温)

  • 耐温 - 40~450℃,高温退火炉 / LPCVD 管式炉专用

4.F/FV 高压型:爆破压力 1~10bar,特种高压工艺气瓶(NF₃、HF 钢瓶)防爆

5.FS/FVS 超低爆破型:0.01~0.2bar,低压负压腔体、尾气洗涤塔泄压