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CKD喜开理AMD 系列高纯化学药液阀
产品型号:AMD00
产品简介:
CKD 三大类半导体高纯药液阀(AMD 隔膜阀 + AMB 波纹管阀 + PMM 电控阀) 高纯化学药液阀(WET 湿法:蚀刻 / 清洗 / 显影 / 电镀,半导体前道晶圆湿法设备主力)
详细介绍
一、AMD 系列(气控隔膜阀|半导体湿法用量*大主力)
【核心结构 & 参数】
介质接触面全 PFA/PTFE 无金属浸润(AMD-1M 全无金属高纯款)
,杜绝金属离子析出污染晶圆,满足 Class1 超高纯制程;阀体驱动外壳 PVDF 氟塑料,耐 HF 氢氟酸、强酸强碱、光刻有机溶剂。
规格:AMDZ (微型)、AMD0/01/02/03/04
,接口 1/8"~1"(3mm~25mm),节流孔径 2~22mm;
标准 3R 系列:耐压
0~0.5MPa
,流体温度 - 10~120℃;
1H 高压款:耐压 0.7MPa,适配高压供液管路;1M 无金属特化款:高浓度氢氟酸专用
。
可选:阀体开关反馈传感器、流量微调、低水锤结构;分 2 通(AMD)、3 通换向(AMG)两种阀体。
产品参数
:阀腔通体 PFA/PTFE,耐 HF、强酸强碱,工作压力 0~0.6MPa,耐温 - 10~90℃;规格 AMD00/01/02/03/04,接口 1/4"~1"。
应用
:晶圆清洗机、单片蚀刻、显影设备药液通断
。
【应用场景】
单片晶圆清洗机(RCA 清洗)
:切换 SC1/SC2/DHF/SPM 各类清洗药液、DI 超纯水通断;
涂胶显影机 Coater/Developer
:光刻胶、显影液、剥离剂精准供液切断(3 通 AMG 用于药液 / 废液换向);
湿法蚀刻设备
:硅片酸蚀、碱蚀药液循环、排液开关;
化学品集中供液 CDS 系统
:酸碱药剂储罐后端支路主控阀;
配套:8/12 寸晶圆湿法设备、面板 LCD 湿制程。
1.AMD 系列(主力膜片气控阀,PFA/PTFE 阀体,半导体*通用)
型号:AMD00/AMD01/AMD02/AMD03/AMD04(口径 1/4″~1″)
参数:全 PTFE+PFA 膜片,耐 HF、H₂SO₄、氨水、显影液;耐压 0~0.6MPa,耐温 - 10~90℃;无金属浸润、低析出、Class1 洁净。
场景:晶圆清洗机、单片式蚀刻机、显影机药液通断、酸碱管路开关。
2.AMB/EMB 波纹管阀(超高纯微量药液)
型号 AMB00~AMB03
:金属波纹管隔绝,零渗漏,超纯水、超高纯试剂输送;
场景:CMP 研磨液供给、高纯 DI 水分配、微量药剂配比。
3.PMM 电磁药液阀(电控直动)
PMM01/PMM02:PFA 阀体,24VDC 电控,小流量药剂精准切断;
场景:小型湿制程机台药剂支路、实验室晶圆小样设备。