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CKD喜开理GTR 系列精密气体调压阀
产品型号:GTR300
产品简介:
CKD 三大类半导体高纯药液阀(AMD 隔膜阀 + AMB 波纹管阀 + PMM 电控阀) 高纯化学药液阀(WET 湿法:蚀刻 / 清洗 / 显影 / 电镀,半导体前道晶圆湿法设备主力)
详细介绍
一、制程高纯气体阀(Dry 制程:CVD/PVD/ALD/ 离子注入,特种腐蚀性气体 SiH₄、NF₃、WF₆)
1.GTR 精密气体调压阀(高纯特气面板标配)
型号 GTR2000/GTR4000:316L-EP 不锈钢内抛光,Ra≤0.25μm;调压 0~0.5MPa,漏率≤1×10⁻⁹Pa・m³/s;
场景:机台特气柜 GC、CVD 源瓶稳压、ALD 前驱体供气稳压。
2.NVP/NAP 气控隔膜阀(高纯气体切断阀)
NVP10/NVP20:不锈钢 EP 阀体,VCR 接头,耐腐蚀性工艺气体;
场景:PVD、LPCVD 炉体气路开关、N₂吹扫、特种反应气通断。
3.3QR/3QB 微型比例电磁阀(小流量气体精密配比)
3QB:宽度 10mm 超薄比例阀,0~5V 电控调流量;3QR 紧凑型三通直动阀;
场景:ALD 微量载气配比、腔体微量 N₂微调、小型等离子设备气控。
4.M3GB/M4GB 集成阀岛(背板式电磁阀组)
M3GB/M4GBR:集成汇流板后配管,多通道气路集成,洁净低发尘;
场景:设备控制箱集中气控、晶圆传输机械手气源分配。
适用气体 & 场景
适用
:NF₃、SiH₄、HCl、Cl₂、NH₃、N₂、Ar、He(腐蚀 / 自燃 / 剧毒特种工艺气体)
VMB 阀箱、VMP 阀盘、Gas Cabinet 特气柜
:气瓶后端**切断、MFC 上下游隔离;
刻蚀、CVD、ALD 机台机侧管路气源通断;
大宗高纯氮气 / 氩气主管支路切断。
一、全系列型号划分
型号
接口口径
定位
GTR200
1/8、1/4
微型小流量、机台单点调压
GTR300
1/4、3/8
半导体*常用标准款
GTR400
3/8、1/2
中大流量分支主管调压
GTR500
3/4
车间支线大流量供气
GTR600
1 寸
厂区大宗 N₂总管稳压
四、NAP vs NVP 选型对照表
型号
驱动方式
适用工况
半导体选型
NAP
外接气源气控、无线圈
防爆、无尘洁净区、特气柜内部
NAP-P4(无铜)
NVP
内置电磁线圈 + 外部先导
设备机台、PLC 自动控制
NVP-P4(晶圆机械手)
细分选型后缀
S:标准型
:调压 0~0.8MPa(常规氮气、CDA)
L:低压专用型
:上限 0.4MPa,微压精准稳压(吹扫、气动驱动用气)
N:不带压力表、J:不配安装支架,标配卡扣嵌入式圆表(表盘内嵌、节省安装空间)
二、核心结构 & 关键参数
平衡式膜片调压结构
内部平衡阀芯,
调压迟滞<±2% FS
,气源压力波动时二次输出漂移极小;旋钮按压自锁结构,调好压力按下锁死,震动、环境变化不会跑压,半导体洁净厂房**。
耐压与调压区间
一次进气:*高 1.0MPa;
标准 S:二次调压 0.02~0.8MPa;低压 L:0.01~0.4MPa;
使用温度:-5℃~60℃,洁净室常温工况适配;
材质(半导体洁净规格)
阀体压铸铝合金 + 内壁低析出处理,
P6 禁铜可选规格(无铜析出,适配高纯 N₂/Ar)
,无橡胶碎屑脱落,满足 Class1000 洁净室要求;
安装方式
面板嵌入安装 + 外挂支架两种,气盘集成模块化排布紧凑。
三、半导体全场景应用
1、厂务大宗气体系统(CDS 供气)
全厂
氮气 N₂、氩气 Ar、干燥压缩空气 CDA
分支管路二级稳压;空压机后端分配管路调压,稳定机台前端供气压力。
2、特气柜 / Gas Cabinet 辅助用气
AGD 金属隔膜阀驱动气源、