1. FE 系列（FE-300/3700/5700/5000） —— 独立台式 / 离线膜厚仪（你说的 Stand-alone 膜厚測定機）
2. LS 线扫描系列 —— 离线 / 在线大面薄膜测厚，有时也被混称为 TE

一、FE 系列（Stand-alone 台式膜厚仪，常被称为 TE）

1）FE-300 系列（入门通用型）

• FE-300V：标准型（Vis 可见光）
• FE-300UV：紫外增强型
• FE-300NIR：近红外厚膜型

• 测量原理：反射分光干涉 + **反射率分析
• 膜厚范围：
  • FE-300UV：1 nm ~ 30 μm
  • FE-300V：3 nm ~ 50 μm
  • FE-300NIR：16 nm ~ 300 μm
• 波长：
  • UV：230–800 nm
  • VIS：360–1100 nm
  • NIR：900–1600 nm
• 单点测量时间：≤1 s
• 光斑：φ20 μm
• 可解析层数：*多 10 层
• 尺寸：台式小型机，约 350×450×200 mm

• 200 mm 晶圆量产抽检：SiO₂、SiN、光刻胶（PR）、多晶硅厚度
• R&D 小批量：实验室离线测厚、工艺条件筛选
• 封装 / 载板：干膜、阻焊层、PI 膜、环氧树脂层
• 化合物半导体：GaAs、InP 上介质膜 / 金属膜厚

2）FE-3700 / FE-5700（高精度、自动化型）

• 波长：230–1700 nm（UV–NIR 宽带）
• 膜厚：1 nm ~ 500 μm
• 重复性：≤±0.05 nm（超薄膜）
• 平台：全自动 XYθ 平台（300 mm 兼容）
• 映射：2D/3D 厚度分布图
• 层数：*多 20 层解析

• 300 mm 晶圆厂离线质检：CMP 后氧化层残留、STI 浅沟槽、ILD 层间介质
• 光刻工艺：PR 膜厚 + 均匀性检测（曝光前 / 后）
• 超薄高 k 介质：几 nm–几十 nm HfO₂、Al₂O₃ 等
• 功率器件：厚场氧、钝化膜、外延层测厚

3）FE-5000 / 5000S（光谱椭偏，**膜厚 / 光学常数）

• 测量方式：光谱椭偏 + 反射率
• 波长：190–1700 nm
• 膜厚：0.1 nm ~ 500 μm
• 可测：膜厚 + 折射率 n + 消光系数 k
• 自动变角：45°–90° 自动入射角
• 解析能力：多层膜、梯度膜、超晶格