型号

• 标准型号：ELSZneo（单机，含多角度光路 + 温控）
• 可选配件：
  • 超微量池：3 μL 样品（生物 / 微量样品）
  • 平板样品池：固体表面 Zeta（晶圆、薄膜）
  • 高盐涂层池：耐高盐（如生理盐水、CMP 浆料）
  • 温度梯度模块：0–90℃ 变温、测相变 / 变性温度

核心参数

• 原理：动态光散射（DLS）+ 电泳光散射（ELS）+ 静态光散射（SLS）
• 粒径范围：0.1 nm ~ 10 μm
• 粒径重现性：±2%
• Zeta 电位范围：±200 mV
• 分子量范围：340 ~ 2×10⁷ Da
• 浓度范围：0.001% ~ 40%（w/v）
• 样品量：3 μL ~ 1.5 mL
• 温度：0–90℃（精度 0.1℃）
• 光源：638 nm 半导体激光
• 测量时间：≈1 s / 点

半导体运用场景

1. CMP 浆料：研磨颗粒（SiO₂/Al₂O₃/CeO₂）粒径分布、Zeta 电位、分散稳定性、添加剂相互作用。
2. 晶圆表面污染 / 清洗：表面纳米异物（<100 nm）粒径、表面 Zeta，评估清洗 / 吸附机理。
3. 光刻胶 / 剥离液：胶粒聚集、分子量、温度稳定性、微凝胶分析。
4. 纳米材料 / 前驱体：量子点、纳米线、ALD 前驱体胶体粒径与表面电荷。
5. 高盐 / 高固体系：CMP 浓浆、电镀液、清洗液中颗粒分散与团聚控制
   nanoSAQLA（多样品纳米粒径测量系统）

   定位

   纯粒径专用、高通量、低成本，无 Zeta / 分子量，主打5 工位连续测量，可配自动进样器 AS50（50 样品），适合产线 / 研发大量样品快速筛样
   

   型号

   • 标准型号：nanoSAQLA（主机，5 工位）
   • 选配：
     • AS50 自动进样器：50 样品，无人值守
     • 微体积池：20 μL 微量
     • 有机溶剂兼容池：低介电常数溶剂

   核心参数

   • 原理：动态光散射（DLS），三角度检测（前 / 侧 / 后）
   • 粒径范围：0.6 nm ~ 10 μm
   • 浓度范围：0.00001% ~ 40%（w/v）
   • 温度：0–90℃（梯度功能）
   • 光源：660 nm、70 mW 高功率半导体激光
   • 检测器：高灵敏 APD
   • 连续测量：标配 5 样品；AS50→50 样品
   • 样品量：1.2–2.0 mL（标准）/20 μL（微体积）
   • 尺寸 / 重量：240×480×375 mm，18 kg

   半导体运用场景

   1. CMP 浆料 QC / 高通量筛选：日常粒径分布监控、批次一致性、不同配方快速对比。
   2. 清洗液 / 化学品过滤验证：过滤前后纳米颗粒（>1 nm）浓度与粒径变化。
   3. 光刻胶 / 显影液 / 剥离液：胶粒团聚、储存稳定性、温度影响（变温测试）。
   4. 纳米粉体 / 分散液：SiO₂、TiO₂、ZrO₂、碳纳米管等分散性快速评估。
   5. 封装材料 / 浆料：银胶、绝缘胶、填料粒径与分散均匀性。