成为连接全球半导体资源 与国内终端需求的核心桥梁
全 国 服 务 电 话 13530227878
NIKKATO日陶 氧化锆特殊耐火坩埚
材质纯度:ZrO₂ + Y₂O₃ 含量为 99.8%,高纯度确保了其在高温下对物料的低污染性。
体积密度:5.6 g/cm³。致密的微观结构赋予了产品低气孔率和高抗渗透性。
抗弯强度:室温下为 210 MPa,在 1200℃ 高温下为 90 MPa。高温抗弯强度数据确保了其在工艺温度下的结构稳定性,不易变形。
热膨胀系数:10.2 × 10⁻⁶/K,保证了其在快速升降温过程中的抗热震性。
热传导率:3.0 W/(m·K),具有隔热效果,使炉内温度场更加均匀。
ZR‑Y30 的核心优势在于其一系列特性:
极高耐热性:可耐受剧烈的高温工况(具体温度范围见下节)。
低污染与化学稳定性:高纯度使其在高温下几乎不与物料发生反应,能有效防止污染,这对于MLCC等电子陶瓷材料至关重要。
优异抗热震性:能承受快速的升降温流程而不开裂,显著延长了使用寿命。
耐腐蚀性:在氧化和还原气氛中都极为稳定,耐酸碱侵蚀。
精密成型:产品尺寸**,能满足电子陶瓷基板烧结等对公差要求严格的工艺。
*高使用温度:可达 1600℃ ~ 1800℃。
**使用预热:为保护坩埚,新坩埚**使用前必须进行预热,通常在约500℃下缓慢烘烤1-2小时,以去除吸附的水分。
这些特性使其广泛应用于以下对材料和工艺要求苛刻的领域:
金属与贵金属熔炼:铂、金等贵金属及特种合金的熔炼与铸造。
电子陶瓷与被动元件:作为MLCC(多层陶瓷电容器)、压电陶瓷等材料的高洁净烧结容器。
新能源材料:用于锂电正极材料(如钴酸锂)和固态电解质的高温合成。
半导体与高纯材料:作为扩散/氧化炉的高纯承载部件,避免金属污染。
玻璃与光学材料:熔炼光学玻璃、进行单晶生长等,ZR-Y30能提供超高温与结构稳定性。
实验室与科研:用于高温固相反应、热分析、XRF熔融制样等前沿研究。
为确保产品性能与使用寿命,请务必遵守以下操作规程:
缓慢升降温:升温速率不宜过快(建议≤5℃/min),同时避免剧烈冷热冲击,在100℃~300℃和1050℃~1200℃等敏感温度区间应适当放缓。
火焰管理:避免强氧化性火焰直接、长时间喷射在容器壁上。
配套盖子:如需进行挥发性物料处理,建议选配同材质的坩埚盖子。
合理加料:物料不应填装过满或过于紧实,应预留热膨胀空间。
规范取放:高温时使用专用夹具,轻拿轻放,防止局部受力过大。
ZR‑Y30 是一款性能均衡的“标准”高纯氧化锆产品,适合绝大多数严苛应用。如果您需要更强的机械强度或更高的电化学性能,NIKKATO 还提供了同系其他高性能型号以满足特定需求: