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DIC 迪爱生 eFLOW 超纯水防静电装置 DIC 迪爱生（日本），归属 SEPAREL 中空纤维膜产品线，脱气 + 防静电一体化设备，专为半导体 / 面板超纯水清洗静电问题开发。
静电击穿精细线路、光刻图形报废
粉尘、颗粒静电吸附基板，良率下降
eFLOW 通过中空纤维膜微量溶解 CO₂，电离产生导电离子，精准下调电阻率 0.1~15MΩ・cm，水体导出静电，全程无化学药剂添加，不污染超纯水。
内置 PF-L 脱气模组（前置真空脱气）
超纯水走中空纤维内腔，外侧真空抽取，ppb 级脱除溶解氧、气泡，杜绝清洗水印、针孔缺陷；膜芯为纯水专用 PF-001L 系列（和喷墨脱气模组同膜技术体系）。
CO₂膜溶入防静电系统
分流一路纯水通入 CO₂溶解膜模组，高纯 CO₂透过中空纤维膜溶解入水生成碳酸；
自动配比CO₂饱和水 + 原生超纯水混合比例，稳定控制出水电阻率，持续消除水流静电
运用场景：
晶圆 Dicing 切割清洗
硅片刀片切割后高压纯水冲洗，消除水流静电，防止粉尘、硅屑静电吸附晶圆表面，避免后续光刻图形短路、针孔缺陷。
单片式 Scrubber 毛刷清洗
8/12 寸晶圆光刻前、刻蚀后、薄膜沉积后水洗，防止静电击穿栅极、微小线路断路，提升良率。
SC1/SC2 湿法槽式清洗
标准晶圆氧化层、颗粒去除工序，超纯水循环调质，稳定电阻率抑制静电积尘。
高压喷射喷淋清洗
晶圆背面、边缘定点高压冲洗，流量波动大工况下持续控静电，无瞬间放电损伤芯片。
掩模版 / 光罩精密清洗
高精度光刻母版清洗，杜绝静电吸附微颗粒造成整片曝光报废，gao端 FAB 标配。
功率器件、SiC 碳化硅晶圆清洗
第三代半导体超薄晶片，静电极易击穿薄层结构，必须配套 eFLOW 调质纯水。