瑞士 VAT 13.1 L‑Gate 超高真空隔离阀

产品介绍

VAT 13.1 为 L‑Gate 结构超高真空隔离阀，采用平移闸板启闭形式，专为 UHV 超高真空工况设计，适配半导体、科研真空腔体管路通断控制。可配置气动驱动，密封性能稳定，漏率极低，具备紧凑腔体布局，能够满足严苛的颗粒控制要求，广泛用于真空镀膜、粒子设备、科研实验装置，保障高真空系统可靠隔离。

产品参数

• 阀门类型：L‑Gate 平移式超高真空隔离阀
• 适用真空等级：UHV 超高真空
• 驱动方式：标准气动驱动，可选手动
• 法兰规格：多种 CF 标准法兰可选
• 泄漏率：≤1×10⁻¹¹ Pa・m³/s
• 工作温度：‑20℃～+150℃
• 阀体材质：不锈钢 316L
• 闸板密封：金属密封
• 颗粒控制：低粒子析出设计
• 位置反馈：可选限位开关信号输出

产品特点

1. L‑Gate 平移闸板结构，开关动作平稳，减少微粒产生
2. 全金属密封，实现超高真空 UHV 工况，耐烘烤
3. 阀体紧凑，节省真空设备整体安装空间
4. 气动驱动响应快，带位置信号反馈，便于自动化集成
5. 耐腐蚀不锈钢阀体，适配多种工艺气体环境

对比优势

1. 金属密封对比橡胶密封，可烘烤、无有机物释放，适合 UHV 系统
2. L‑Gate 平移结构，相比摆动阀，腔内扰动小，颗粒污染更低
3. VAT 原厂加工精度高，长期循环使用密封衰减慢，维护周期长
4. 信号接口标准化，可便捷对接半导体、科研设备 PLC 控制系统
5. 相比同规格竞品，腔体流导表现优异，不额外损耗系统真空性能

运用场景

1. 半导体制造设备腔体隔离、真空管路通断
2. 科研实验室粒子加速器、电子束设备、表面分析仪器
3. 超高真空镀膜、MBE 分子束外延设备
4. 航天部件真空测试腔体
5. **材料研发 UHV 真空系统管路隔断