HORIBA 堀场 PV-1000压电式高速控制阀

一、产品定位

PV‑1000 属于 HORIBA‑STEC 流体控制板块压电式高速控制阀，半导体工艺设备核心零部件；搭配压力 / 流量传感器、PCU 控制单元，实现气体压力、流量闭环控制，广泛用于刻蚀、CVD、ALD、MOCVD 腔体，既可整机配套，也作为产线备件流通，是半导体精密气路的热销阀件。

二、核心技术与工作原理

三、产品优势与特点

1. 超快响应：响应时间≤0.5s，工艺压力 / 流量突变时快速补偿，保障制程一致性。
2. 超高洁净：接气部位全金属构造，氦检漏 5×10⁻¹² Pa・m³/s，极低析出，适配半导体高纯气路。
3. 宽调节区间：2‑100% FS 宽控制范围，支持多档位流量规格（CCM/LM 量程可选）。
4. 耐压可靠：*高耐压力 1MPa，*大压差 300kPa；工作温度 0‑50℃。
5. 体积小巧：紧凑阀体，适配设备狭小气路模组，便于设备集成改造、备件替换。
6. 两种阀型可选：常开型、常闭型，适配不同设备**逻辑。

四、主要应用场景

1. 半导体：刻蚀、PVD/CVD、ALD、MOCVD 设备腔体压力、气体流量精密调节；
2. 化合物半导体：氮化镓、砷化镓外延设备气路控制；
3. 科研设备：真空镀膜、实验室真空工艺平台；
4. 泛半导体：面板、光伏镀膜设备高纯气路；
5. 配套搭配：与 MFC 质量流量控制器、汽化器联动组成整套流体控制系统。