MKS美国 631F13TMFHAA 高温电容压力计

1. 产品定位

• 属于 MKS Baratron® 600 系列模拟压力变送器家族，定位 "高价值工艺腔体的关键计量件"—— 不是普通真空计，而是决定工艺重复性的核心传感器。
• 面向污染重、腐蚀强、温度高的恶劣真空环境，解决普通压力计在工艺气体下漂移、失效的问题。
• 客户多为半导体 Fab、设备 OEM 厂和真空镀膜产线，选型惯性大、替换成本高，因此品牌依赖性强。

2. 核心技术与原理

• Baratron 电容薄膜原理：工艺压力使金属膜片产生微位移，改变膜片与固定电极间的电容，电容变化经电路转换为与**压力线性对应的 0–10VDC 模拟输出 —— 直接测**压力，与气体成分无关，无需修正系数。
• 高温防污染设计：传感器内部恒温加热到 150°C 或 200°C，抑制金属刻蚀、CVD 等工艺副产物在敏感元件表面沉积，几乎消除污染引起的输出漂移。
• 全 Inconel®/Incoloy® 镍合金传感器：对腐蚀性工艺气体耐受性极强（TriClover 接口版本配 316L 不锈钢）。
• 自包含电子：仅需 ±15VDC 供电，无独立电子模块和互联电缆，消除电缆噪声。

3. 产品优势与特点

• 精度 0.5% of Reading、分辨率 0.01% FS、响应 50ms，量程覆盖 1/2/10/30/100/1000 Torr；
• 45 psia 过压额定，抗压力冲击，突发超压不影响重复性和稳定性；
• 新封装较上代节省至少 40% 安装空间，便于新机台设计和旧设备改造；
• 可选 2 个 UL 认证固态压力跳闸继电器（可在常压下独立调定值，无需真空泵）+ 1 个加热器故障继电器，直接控制外部设备；
• 接口灵活：½"OD 管、Swagelok® 8 VCR、NW16-KF、1.5"/2" TriClover；
• CE 认证、RoHS 合规；带 LED 状态灯和防故障过热保护。

4. 主要应用场景

• 半导体制造：金属刻蚀、氮化物 CVD、LPCVD、PECVD、RIE、ALD 腔体压力测量与控制；
• 镀膜 / 薄膜设备：PVD 磁控溅射、真空镀膜机、薄膜沉积设备的工艺压力监测；
• 光伏与平板显示：太阳能电池镀膜、FPD 制造真空工艺；
• 科研与实验室：高精度真空系统、真空计量；
• 工业与化工：真空反应釜、精细化工真空工艺压力监测；
• 生物医药：冷冻干燥（冻干机）、DI 蒸汽**等高温高湿工艺。