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MKS美国 728A12TCE2FB 加热型绝压电容薄膜真空计
产品型号:
产品简介:

MKS Instruments 旗下 Baratron 系列里体积*小的加热型(100°C)绝压电容薄膜真空计,量程 1–1000 Torr,用于真空工艺腔体的高精度、高重复性压力测量。

详细介绍

MKS美国 728A12TCE2FB 加热型绝压电容薄膜真空计


定位

MKS Instruments 旗下 Baratron 系列里体积*小的加热型(100°C)绝压电容薄膜真空计,量程 1–1000 Torr,用于真空工艺腔体的高精度、高重复性压力测量。它属于半导体等**真空设备中的 "设计指定(spec-in)" 部件 —— 设备出厂就锁定了这个型号。


核心技术与原理

采用 MKS 招牌的 Baratron 电容薄膜技术。被测气体经进气管作用在薄金属膜片上,膜片与参考腔内的固定电极构成一个电容;压力变化使膜片微变形、与电极间距改变,电容随之变化,再转换为 0–10 VDC 的线性电信号。关键点是测量结果只取决于膜片的物理形变,与气体种类无关—— 不管腔体里是刻蚀用的腐蚀性气体还是 CVD 前驱体,读数都不受影响,这是它远优于热传导类真空计(皮拉尼规)的根本原因。内部还做了 100°C 恒温加热,防止工艺副产物在膜片上凝结沉积导致漂移。


产品优势与特点
  • 精度高:0.5%(读数精度,10–1000 Torr 量程),低量程端依然准确
  • 响应快:<75 ms,适合闭环压力控制
  • 耐腐蚀:接触工艺气体部分全为 Inconel 镍合金,全金属全焊接结构
  • 抗过压:45 psia 或 2 倍满量程,爆破压力*高 10 倍满量程,耐管线压力尖峰
  • 体积小:*小加热型 Baratron,可直接装入工艺腔内部和气柜,也适合旧设备改造
  • 兼容性好:0–10 VDC 模拟输出,适配绝大多数控制系统;9 针 / 15 针 D-sub
  • 规格灵活:1–1000 Torr 九档量程,VCR/VCO/KF/CF 多种接头可选


主要应用场景

半导体晶圆制造(刻蚀、CVD、PVD、薄膜沉积的工艺腔压力测量,高纯气柜与气体分配系统监测)、各类真空镀膜设备(磁控溅射、蒸发镀膜、离子镀)、光伏与光学(PECVD、太阳能电池及光学镀膜)、新能源(锂电真空干燥等真空工艺)、科研与实验室(真空实验、气体激光器、真空蒸馏、冻干)、工业化工与精细化工(真空蒸馏、真空干燥、真空反应釜)、工业炉窑(真空热处理炉、钎焊炉)等。